基本信息
李思坤男硕导中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件： lisikun@siom.ac.cn
通信地址： 上海市嘉定区清河路390号
邮政编码： 201800

研究领域

招生信息
招生专业080300-光学工程
070207-光学

招生方向高端光刻机技术，光学检测技术


教育背景2006-09--2011-07四川大学工学博士学位
2002-09--2006-07山东理工大学理学学士学位

学历
学位

工作经历
工作简历2013-07~现在,中科院上海光学精密机械研究所,副研究员
2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所,助理研究员

社会兼职2015-03-01-今,国家自然科学基金委项目通信评议人,


教授课程

专利与奖励
奖励信息
专利成果（ 1 ） 一种光刻机光源的优化方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 2.3
（ 2 ） 光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 5.6
（ 3 ） 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 7.0
（ 4 ） 并行计算光学条纹图相位提取方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 5.0
（ 5 ） 极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 0.5
（ 6 ） 一种光束准直性检测方法 , 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 5.8
（ 7 ） 极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 6.6
（ 8 ） 基于GPU并行计算小波变换的光学条纹图相位提取方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 6.5
（ 9 ） 光刻机光源与掩模的联合优化方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 1.1
（ 10 ） 光刻机照明光源的描述方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 4.5
（ 11 ） 光刻物镜奇像差原位检测方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 1.1
（ 12 ） 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: 4.1
（ 13 ） 极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 7.1
（ 14 ） 三维信息光学加密系统和方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 9.X


出版信息
发表论文（1）Radial period extraction method employing frequency measurement for quantitative collimation testing,Optics Communications,2016,第1作者
（2）Wavefront aberration measurement method for a hyper-NA lithographic projection lens based on principal component analysis of an aerial image,Applied Optics,2016,第3作者
（3）General analytical expressions for the impact of polarization aberration on lithographic imaging under linearly polarized illumination,Journal of the Optical Society of America A,2016,第3作者
（4）Source optimization using particle swarm optimization algorithm in photolithography,Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII,2015,第2作者
（5）Analytical analysis for impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging quality,Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII,2015,第2作者
（6）A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask,Proc. SPIE. 9052, Optical Microlithography XXVII,2014,第1作者
（7）Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image,Optics Express,2014,第3作者
（8）Aberration measurement based on principal component analysis of aerial images of optimized marks,Optics Communications,2014,第3作者
（9）In situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask ,J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS,2014,第1作者
（10）Efficient source mask optimization using multipole source representation ,J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS,2014,第2作者
（11）Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography ,J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS,2014,第3作者
（12）Three-dimensional information security combined fringe projection with double random phase encoding,Optics Communications,2013,第1作者
（13）Robust pixel-based source and mask optimization for inverse lithography,Optics and Laser Technology,2013,第1作者
（14）Adaptive denoising method to improve aberration measurement performance,Optics Communications ,2013,第3作者
（15）Defect parameters retrieval based on optical projection images,Proc. SPIE. 8789, Modeling Aspects in Optical Metrology IV,2013,第2作者
（16）Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging,Optics Letters,2012,第3作者
（17）Two-dimensional wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping in optical fringe pattern analysis,Applied Optics,2012,第1作者
（18）Hilbert assisted wavelet transform method of optical fringe pattern phase reconstruction for optical profilometry and interferometry,Optik - International Journal for Light and Electron Optics,2012,第1作者
（19）A new wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping of optical fringe patterns,Optics Communications,2011,第1作者

发表著作

科研活动
科研项目（ 1 ） 提高小波变换条纹图像处理技术精度和速度的方法, 主持,国家级,2013-01--2015-12
（ 2 ） 极紫外光刻掩模缺陷计算补偿方法, 参与,国家级,2015-01--2018-12
（ 3 ） EUVL三维厚掩模衍射成像建模与仿真研究, 主持,国家级,2012-01--2015-12
（ 4 ） 基于空间像矢量分析的偏振像差在线检测与像质优化方法, 参与,国家级,2013-04--2016-12
（ 5 ） 光刻机光源与掩模联合优化理论与方法, 主持,院级,2015-12--2016-12
（ 6 ） 光刻过程中的透镜热效应仿真理论与方法, 主持,院级,2015-12--2016-12

参与会议（1）Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithographySikun Li, Xiangzhao Wang, Xiaolei Liu, et al2015-06-22
（2）Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in PhotolithographyLei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Guanyong Yan, Chaoxing Yang 2015-02-22
（3）A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring maskSikun Li, Xiangzhao Wang , JishuoYang, Feng Tang, Guanyong Yan, Andreas Erdmann2014-02-23
（4）Source representation for SMO using genetic algorithmXiangzhao Wang, Sikun Li, C. Yang, G. Yan2013-09-26
（5）Research on in situ aberration measurement of lithographic projection lensesXiangzhao Wang, Sikun Li, L. Duan, J. Yang, and G. Yan2012-09-20


合作情况
项目协作单位

指导学生现指导学生
茅言杰硕士研究生070207-光学
成维硕士研究生080300-光学工程