基本信息
刘丰珍 女 教授 博导 材料科学与光电技术学院
电子邮件：liufz@gucas.ac.cn
联系电话：86-**
传真：86-**
通信地址： 北京市玉泉路19号（甲）
邮政编码： 100049


研究领域光电子薄膜材料与物理
包括：硅基光伏材料与器件，硅基薄膜生长机制

招生信息

招生专业070205-凝聚态物理-


招生方向光电子薄膜材料与物理
教育背景

学历博士
学位博士
教授课程《半导体器件物理》
《薄膜物理》
出版信息

代表论文1. Kinetic roughneing and mound surface growth in microcrystalline Si thin films Fengzhen Liu, Chaowei Li, Meifang Zhu, Jinhua Gu, and Yuqin Zhou, Phys. Status Solidi C , (2010)533.
2. Aligned amorphous and microcrystalline Si nanorods by glancing angle deposition at low temperature, Yanhong Ma, FengzhenLiu, Meifang Zhu, Jinlong Liu, Huan-huaWang, Yi Yang and Yongfang Li, Nanotechnology 20 (2009) 275201.
3. Silicon Nanorods Prepared by Glancing Angle-Catalytic Chemical Vapor Deposition，Yanhong Ma, Fengzhen Liu, Meifang Zhu and Penggang Yin, Thin Solid Films 517 (2009) 3492.
4. The comparisons of growth mechanisms for Si thin films with different deposition rates in CVD process by the description of the roughness evolution, F. Liu, Z. Sun, W. Zi, Y. Zhou, M. Zhu, Journal of Non-Crystalline Solids, 354 (2008) 2345.
5. Nano-Structure in Micro-Crystalline Si Thin Films Studied by Small-Angle X-Ray Scattering, 3rd International Conference on Cat-CVD Process，Bingqing Zhou, Fengzhen Liu, Jinhua Gu, Qunfang Zhang, Yuqin Zhou, Meifang Zhu. Thin Solid Films, 501 (2006) 113.
6. Anisotropic Electronic Transport in Microcrystalline Silicon Thin Films, Fengzhen Liu, Meifang Zhu, Qi Wang, Physics letters A, 331 (2004) 432.
7. Amorphous silicon nitride deposited by hot-wire chemical vapor deposition，Fengzhen Liu, Bob To, Qi Wang, Errol Sanchez and Shulin Wang, J. Appl. Phys., 96 (2004) 2973.


科研活动
指导学生已指导学生

崔介东 硕士研究生 070205-凝聚态物理

孙振中 硕士研究生 070205-凝聚态物理

李超伟 硕士研究生 070205-凝聚态物理

郭万武 硕士研究生 070205-凝聚态物理

李天微 硕士研究生 070205-凝聚态物理

现指导学生

董刚强 硕士研究生 070205-凝聚态物理

张海龙 博士研究生 070205-凝聚态物理