不同处理状态下(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>磁致伸缩薄膜的结构及其磁性能
| 文献类型 | 会议 |
| 作者 | 姜训勇[1];袁志好[2];徐惠彬[3] |
| 机构 | 天津理工学院材料科学与工程系(天津);北京航空航天大学材料科学与工程学院(北京 ↓ |
| 来源信息 | 年:2004页码范围:238-240 |
| 会议信息 | 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集中国物理学会;中国电子学会ISSN: |
| 关键词 | 薄膜 晶化 磁各向异性 直流磁控溅射法 |
| 摘要 | 采用直流磁控溅射法使用合金靶制备了(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>薄膜.在400℃以下处理时薄膜均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了α-Fe相.镀态薄膜呈现出垂直磁各向异性,随着基板预变形的增加,薄膜的垂直磁各向异性逐渐消失,达到一定的预变形后,薄膜没有明显的易磁化方向,这种趋势经200℃处理仍保持.经400℃处理后,所有薄膜呈现出平面磁各向异性. |
| 所属部门 | 材料科学与工程学院 |
| 会议地点 | 天津 |
| 人气指数 | 2 |
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影响因子：
材料科学与工程学院
dc:title:不同处理状态下(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>磁致伸缩薄膜的结构及其磁性能
dc:creator:姜训勇;袁志好;徐惠彬
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:会议
dc:format: Media：第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集中国物理学会;中国电子学会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集中国物理学会;中国电子学会.2004,238-240.
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