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衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06

文献详情


衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究
文献类型会议
作者文雄伟[1];李路明[2];江兴流[3];韩丽君[4];潭轶平[5]
机构
会议论文集航空制造技术
来源信息年:2004页码范围:205-208
会议信息2004年高能束流加工技术国际研讨会ISSN:
关键词脉冲电子束;铁电薄膜;薄膜沉积;晶体结构
摘要介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验结果.使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)等方法,对薄膜的成份、晶体结构及表面形貌进行分析测试.采用表面轮廓仪测定LN薄膜的膜厚分布均匀性等.
所属部门物理科学与核能工程学院
全文链接http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6051851.aspx
会议地点昆明
会议开始日期2004-09-12


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dc:title:衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究
dc:creator:文雄伟;李路明;江兴流,等
dc:date: publishDate:2004-09-12
dc:type:会议
dc:format: Media:2004年高能束流加工技术国际研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:2004年高能束流加工技术国际研讨会.2004,205-208.
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dc: identifier:ISBN:
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