衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究
文献类型 | 会议 |
作者 | 文雄伟[1];李路明[2];江兴流[3];韩丽君[4];潭轶平[5] |
机构 | [1]清华大学机械系 [2]清华大学机械系 [3]北京航空航天大学理学院 [4]北京航空航天大学理学院 [5]北京航空航天大学理学院 ↓ |
会议论文集 | 航空制造技术 |
来源信息 | 年:2004页码范围:205-208 |
会议信息 | 2004年高能束流加工技术国际研讨会ISSN: |
关键词 | 脉冲电子束;铁电薄膜;薄膜沉积;晶体结构 |
摘要 | 介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验结果.使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)等方法,对薄膜的成份、晶体结构及表面形貌进行分析测试.采用表面轮廓仪测定LN薄膜的膜厚分布均匀性等. |
所属部门 | 物理科学与核能工程学院 |
全文链接 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6051851.aspx |
会议地点 | 昆明 |
会议开始日期 | 2004-09-12 |
全文
影响因子:
dc:title:衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究
dc:creator:文雄伟;李路明;江兴流,等
dc:date: publishDate:2004-09-12
dc:type:会议
dc:format: Media:2004年高能束流加工技术国际研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:2004年高能束流加工技术国际研讨会.2004,205-208.
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dc: identifier:ISBN: