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赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06

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赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜
外文标题Preparation of nanometer thin films by nanosecond pseudospark beam ablation
文献类型期刊
作者韩丽君[1];江兴流[2];文雄伟[3]
机构
来源信息年:2002卷:22期:2页码范围:24-28
期刊信息航空材料学报ISSN:1005-5053
关键词纳秒脉冲电子束;纳米薄膜;烧蚀法
摘要类似于脉冲激光束烧蚀法制备薄膜,利用纳秒赝火花脉冲电子束与靶材料相互作用,通过靶材料的瞬间熔化、蒸发或以团簇抛出的方式,在低温衬底上重新成核、凝结,得到了与靶材的化学计量比相同的薄膜.讨论了材料烧蚀和沉积过程中出现的诸多现象,并给出高分辨电子显微镜、X射线衍射、光电子能谱分析等方法的测试结果.研究表明,由于赝火花脉冲电子束高功率密度 (109 W/cm2 )的瞬态烧蚀作用,为研究和制备多元素氧化物薄膜、难熔金属多层膜或氧化物/金属多层膜提供了一种新手段.
所属部门材料科学与工程学院
链接地址http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_hkclxb200202007.aspx
DOI10.3969/j.issn.1005-5053.2002.02.007
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dc:title:赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜
dc:creator:韩丽君;江兴流;文雄伟
dc:date: publishDate:2002-06-15
dc:type:期刊
dc:format: Media:航空材料学报
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:航空材料学报.2002,22(2),24-28.
dc:identifier:DOI:10.3969/j.issn.1005-5053.2002.02.007
dc: identifier:ISBN:1005-5053
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