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回归温度对7050合金沉淀过程的影响

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06

文献详情


回归温度对7050合金沉淀过程的影响
文献类型会议
作者谷亦杰[1];刘培英[2];张永刚[3];黄正[4];陈昌麒[5]
机构
会议论文集材料工程(增刊)
来源信息年:2000页码范围:72-74
会议信息第五届先进材料技术研讨会ISSN:
关键词时效行为;回归温度;铝合金;显微组织
摘要采用透射电镜(TEM)和维氏硬度计研究了回归(R)处理温度对7050合金的时效行为的影响.研究发现,7050合金回归行为受回归温度和时间的影响.TEM研究结果表明,7050合金在T6状态的硬化来自GP区.在回归处理过程中硬度谷值的产生与GP区的回溶有关,而峰值的产生与η′和η相的沉淀析出有关.研究结果表明,回归温度对7050合金影响与GP区、η′和η相形核和时效沉淀动力学受回归温度影响有关.
所属部门材料科学与工程学院;校机关
全文链接http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_3205626.aspx
会议地点桂林
会议开始日期2000-10-24
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材料科学与工程学院黄正

dc:title:回归温度对7050合金沉淀过程的影响
dc:creator:谷亦杰;刘培英;张永刚,等
dc:date: publishDate:2000-10-24
dc:type:会议
dc:format: Media:第五届先进材料技术研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:第五届先进材料技术研讨会.2000,72-74.
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dc: identifier:ISBN:
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