掺杂纳米硅薄膜微结构的研究
| 文献类型 | 会议 |
| 作者 | 王金良[1];刚毅[2];王天民[3] |
| 机构 | [1]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京 [2]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京 [3]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京 ↓ |
| 会议论文集 | 2000年中国博士后学术会议论文集 |
| 来源信息 | 年:2000页码范围:414-419 |
| 会议信息 | 2000年中国博士后学术会议ISSN: |
| 关键词 | 纳米硅;固体纳米材料;俄歇电子谱 |
| 摘要 | 本研究采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅(nc-Si:H)薄膜.利用高分辨电镜(HREM)、Raman散射、X射线衍射(XRD)、俄歇电子谱(AES)和共振核反应(RNR)等手段对掺入不同杂质(主要是磷、硼)后的纳米硅薄膜的微结构进行系统的研究. |
| 所属部门 | 材料科学与工程学院 |
| 全文链接 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_5915001.aspx |
| 会议地点 | 北京 |
| 会议开始日期 | 2000-10-01 |
全文
影响因子：
dc:title:掺杂纳米硅薄膜微结构的研究
dc:creator:王金良;刚毅;王天民
dc:date: publishDate:2000-10-01
dc:type:会议
dc:format: Media：2000年中国博士后学术会议
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：2000年中国博士后学术会议.2000,414-419.
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