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TiO_2光催化薄膜的结构及性能研究

文献类型	会议
作者	郑树凯[1];王聪[2];向钢[3];张维佳[4];王天民[5]
机构	[1]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [2]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [3]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [4]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [5]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 ↓
会议论文集	2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集
来源信息	年:2000页码范围:3
会议信息	2000年中国材料研讨会ISSN:
关键词	TiO_2光催化;氧化还原特性;半导体氧化物;退火温度;吸收边;可见光范围;生态环境;划痕实验;带边;矿相;
摘要	1 前言随着对大自然的过度开发和资源的过度利用,产生的各种难降解的有毒有害物质越来越多,对人类赖以生存的生态环境造成了巨大破坏。利用某类半导体氧化物的氧化还原特性可以消除许多污染物对环境的破坏。在这方面广大科研工作者做了大量的研究工作。在众多半导体氧化物中,TiO_2由于具有稳定、无毒、氧化能力强等特点而作为典型的光催化剂
所属部门	材料科学与工程学院
会议开始日期	2000-06-30

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dc:title:TiO_2光催化薄膜的结构及性能研究
dc:creator:郑树凯;王聪;向钢,等
dc:date: publishDate:2000-06-30
dc:type:会议
dc:format: Media：2000年中国材料研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：2000年中国材料研讨会.2000,3.
dc:identifier:DOI：
dc: identifier:ISBN: