杨 杰
材料学，助理研究员
(Data Last updated July. 1, 2014)

云南大学工程技术研究院 光电信息材料研究所
办公室：物理馆 316 室
电子邮件 (E-mail): jie_y@126.com


简历
2002 年 9 月～ 2006 年 7 月 理学学士学位 ( 云南大学材料物理专业 )
2006 年 9 月～ 2009 年 7 月 理学硕士学位 ( 云南大学凝聚态物理专业 / 硅基光电薄膜生长研究方向 )
2009 年 9 月～ 2013 年 1 月 工学博士学位 ( 昆明理工大学冶金物理化学专业 / 硅基低维纳米光电材料研究方向 )
2013 年 7 月～至今 云南大学工程技术研究院 光电信息材料研究所

代表论文
1. Jie Yang , Yingxia Jin, Chong Wang, Liang Li, Dongping Tao, and Yu Yang, Evolution of self-assembled Ge/Si island grown by ion beam sputtering deposition, Applied Surface Science, 258 (2012) 3637-3642
2. Jie Yang , Chong Wang, Dongping Tao, Yu Yang, Annealing effects on self-assembled Ge/Si islands prepared by ion beam sputtering deposition, Materials Technology: Advanced performance materials, 27 (2012) 133-135
3. 杨杰，王茺，靳映霞，李亮，陶东平，杨宇，离子束溅射 Ge/Si量子点的应变调制生长，物理学报， 61 (2012) 016804-7
4. 杨杰，王茺，陶东平，杨宇，斜切基片上溅射生长高密度小尺寸 Ge纳米点的研究，功能材料， 43 (2012) 1292-1294
5. 杨杰，王茺，欧阳焜，陶东平，杨宇，沉积温度和生长停顿对 SiGe多层膜的影响，人工晶体学报， 39 (2010) 945-950
6. 杨杰，王茺，陶东平，杨宇，束流密度对 Ge/Si量子点溅射生长的影响，功能材料， 43 (2012) 2239-2242

讲授主要课程
研究生课程：《计算材料学》

主要研究兴趣
1. 低维纳米半导体材料的研究 ;
2. 红外光电材料与器件的研究 .