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天津理工大学研究生导师简介-王晓姹

天津理工大学 免费考研网/2016-02-05

王晓姹简介

姓名王晓姹
性别

出生年月
1980年10月
学历学位
研究生 博士
职 称副教授所属学院
电子信息工程学院是否博硕导硕导
联系电话**E_mail
wangxccn@126.com
所属学科080903 微电子学与固体电子学
080300 光学工程研究方向
宽带半导体薄膜材料、物理和器件
人才称号

学术兼职中国真空学会会员;中国电子学会会员;天津市真空学会会员;Journal of Alloys and Compounds通讯评审;Materials Letters通讯评审。

讲授课程《半导体物理》《电磁场理论》《电子薄膜测试和表征技术》

主要科研项目及代表性成果(包括鉴定项目、论文、专著、获奖、专利等):

   项目:

1、国家自然科学基金青年基金项目:铁磁性金属-碳氮基颗粒薄膜的磁电阻效应研究,项目号:**,项目经费:20 万元,时间:2011年1月—2013年12月,项目负责人。

2、天津市自然科学基金重点项目:新型具有大室温磁电阻效应的磁性半导体薄膜的研究,项目号:14JCZDJC37800,项目经费:20 万元,时间:2014年4月-2017年3月。

3、天津市自然科学基金重点项目:基于自旋调控的高效电注入量子点LED,项目号:14JCZDJC31400,项目经费:2/20 万元,时间:2014年4月-2017年3月,第二。

4、天津市科技计划项目重点项目:AlN/c-BN/nonadiamon多层膜声电性能研究,项目号:06TXTJJC14701,项目经费:50 万元,时间:2006年7月—2009年6月,第二。

5、国家自然科学基金面上项目:AlN/Diamond/Si多层膜声表面波器件及其高频,项目号:**,项目经费:22 万元,时间:2006年1月—2009年4月,第四。

6、国家自然科学基金面上项目:四氧化三铁/半导体复合结构的电子输运特性研究,项目号:**,项目经费:30 万元,时间:2007年1月—2009年12月,第四。



专利:

1. 一种在玻璃基底上制备取向生长多晶氧化锌薄膜的方法,发明专利,王晓姹、陈希明、杨保和,天津理工大学;申请号:**0.1,申请日期:2009.12.08,审理中。

2. 一种用于电极材料的氮化钛外延薄膜的制备方法,发明专利,王晓姹,天津理工大学;申请号:**2.7,申请日期:2011.10.18,专利号:ZL**2.7。

3. 一种具有大磁电阻效应的p-Si基异质结构的制备方法,发明专利,王晓姹,天津理工大学;申请号:**3.1,申请日期:2011.10.18,专利号:ZL**3.1。

4. 一种大磁电阻效应Fe-Ti-O非晶态薄膜的制备方法,发明专利,王晓姹、陈希明、杨保和,天津理工大学;申请号:**9.7,申请日期:2011.09.26,专利号:ZL**9.7。

5. 一种取向生长的铁掺杂氮化钛铁磁性薄膜的制备方法,发明专利,王晓姹、陈希明、杨保和,天津理工大学;申请号:**7.5,申请日期:2011.09.28,审理中。

获奖:

1. 2013年入选首批天津市青年优秀科技人才;

2. 2012年获天津市自然科学二等奖(2012ZR-2-004-R3),第三获奖人;

3. 2011年天津市优秀博士学位论文;

4. 2009年天津大学优秀博士学位论文;

5. 2007年天津大学学生科学奖;

6. 2007年宝钢优秀学生奖。

论文:

[1] 第一作者, Enhanced low-temperature magnetoresistance in facing-target reactive sputtered Ni-CNx composite films, Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 242502. (被APSAIP选为the December 25, 2006 issue of Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology)《SCI》IDS Number: 117PY

[2] 第一作者, Large magnetoresistance observed in facing-target sputtered Ni-doped CNx amorphous composite films, Acta Materialia 55 (2007) 3547-3553.《SCI》IDS Number: 174QE

[3] 通讯作者, Interfacial Exchange Coupling Induced Anomalous Anisotropic Magnetoresistance in Epitaxial γ′-Fe4N/CoN Bilayers, ACS Appl. Mater. & Interfaces 7(6) (2015) 3840-3845.《SCI》IDS Number: CB7KV

[4]第三作者, Superior Properties of Energetically Stable La2/3Sr1/3MnO3/Tetragonal BiFeO3 Multiferroic Superlattices, ACS Appl. Mater. & Interfaces 7 (2015) 10612-10616. 《SCI》IDS Number: CI8XM

[5] 第三作者, The Interface between Gd and Monolayer MoS2: A First-Principles Study, Scientific Reports 4 (2014) 7368.《SCI》IDS Number: AW4TQ

[6] 第三作者, Spin Polarization Inversion at Benzene-Absorbed Fe4N Surface, Scientific Reports 5 (2015) 10602.《SCI》IDS Number: CJ5QB

[7] 通讯作者, First Principles Prediction of Interfacial Magnetoelectric Coupling in Tetragonal La2/3Sr1/3MnO3/BiFeO3 Multiferroic Superlattices, Phys. Chem. Chem. Phys. 17 (2015) 13647-13653.《SCI》IDS Number: CI0HC

[8] 通讯作者, Scaling of Anomalous Hall Effects in Facing-Target Reactively Sputtered Fe4N Films, Phys. Chem. Chem. Phys. 17 (2015) 15435-15441.《SCI》IDS Number: CJ6VK

[9] 第一作者, Positive Magnetoresistance in Amorphous Ni-CNx/p-Si Heterostructure, Applied Physics Express 5 (2012) 043002. 《SCI》IDS Number: 940ZL

[10] 第一作者, Negative Magnetoresistance in Reactive Sputtered Non-uniform Amorphous FexTi1-xOδ Films, Materials Reserch Bullitin. 48 (2013) 3449-3452.《SCI》IDS Number:190PZ
[11] 第一作者, Grain Boundary Magnetism and Conductivity in Polycrystalline Ti1-xMnxN Films by Reactive Sputtering, J. Alloys. Compd. 574 (2013) 539-545. 《SCI》IDS Number:182NG
[12] 第一作者, Annealing effects on the microstructure of amorphous carbon nitride films, Appl. Surf. Sci. 253 (2006) 2087-2092.《SCI》IDS Number: 122RM
[13] 第一作者, Structural and mechanical properties of facing-target sputtered amorphous CNx films, Diamond & Related Materials 15 (2006) 1732-1737.《SCI》IDS Number: 094FD
[14] 第一作者, Structure, optical and electrical transport properties of facing-target sputtered amorphous carbon nitride films, J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 1801-1806.《SCI》IDS Number: 151LL
[15] 第一作者, Microstructure of amorphous carbon nitride films fabricated by facing-target reactive magnetron sputtering, J. Phys. D: Appl. Phys., 37 (2004) 2127–2134.《SCI》IDS Number: 849AR
[16] 第一作者, Microstructure and optical properties of N-incorporated polycrystalline ZnO films, J. Alloys. Compd. 478 (2009) 507-512.《SCI》IDS Number: 455SS
[17] 第一作者, Structure and mechanical properties of titanium nitride/carbon nitride multilayers, Appl. Surf. Sci. 255 (2009) 4005.《SCI》IDS Number: 391PP
[18] 第一作者, Microstructure,magnetic and optical properties of sputtered polycrystalline ZnO films with Fe addition, Appl. Surf. Sci. 256 (2010) 1930.《SCI》IDS Number: 537YZ
[19] 第一作者, Microstructure and optical properties of polycrystalline ZnO films sputtered under different oxygen flow rates, J. Alloys. Compd. 488 (2009) 232–237.《SCI》IDS Number: 545CI
[20] 第一作者, Electrical transport properties of amorphous CNx/p-Si heterostructures, Phys. Stat. Soli. a, 207 (2010) 170.《SCI》IDS Number: 552HT
[21] 第一作者, Surface morphology, structure, magnetic and electrical transport properties of reactive sputtered polycrystalline Ti1-xFexN films, Appl. Surf. Sci. 258 (2012) 4764-4769.《SCI》IDS Number:
[22] 第一作者, Influence of nitrogen partial pressure on morphology, structure and transport properties of reactive sputtered polycrystalline TiN films, Solid State Science 14(2012) 435-439.《SCI》IDS Number: 929TB

[23] 第一作者, Role of Oxygen Concentration on Ferromagnetism and Electronic Transport Properties of Co0.53Ti0.47Oδ Nanocomposite Films, J. Alloys. Compd. 589 (2014) 436-442.《SCI》IDS Number: 296JO

[24] 通讯作者, A First-Principles Prediction on the Magnetism in CoO with Co and O Vacancies, J. Alloys Compd. 610 (2014) 422–427.《SCI》IDS Number: AL0IR

[25] 通讯作者, Magnetism and Electronic Structure in Zn and Ti Doped CoO: A First-Principles Study, Comput. Mater. Sci. 93 (2014) 193-200.《SCI》IDS Number: AO6PT

[26] 通讯作者, First Principles Prediction on The Interfaces of Fe/MoS2, Co/MoS2 and Fe3O4/MoS2, Comput. Mater. Sci. 99 (2015) 326-335.《SCI》IDS Number: CB5PN

[27] 通讯作者, Magnetism and Electronic Structure in La-Doped CoO: A First-Principles Study, Physica E 74 (2015) 226-232.《SCI》

[28] 通讯作者, Effects of Single O Vacancy on The Magnetism and Electronic Structure of Ti doped CoO: A First Principle study, J. Magn. Magn. Mater. (2015) In Press.《SCI》

[29] 第二作者, Microstructure, optical and electrical properties of nitrogen doped sp2-rich a-C thin films grown by facing-target magnetron sputtering, Appl. Surf. Sci. 255 (2009) 9498–9503.《SCI》IDS Number: 488OW
[30] 第二作者, Structure and magnetic properties of sputtered (Fe1-xCrx)0.09Cu0.91 solid solution films, Thin Solid Films 518 (2010) 6137-6141.《SCI》IDS Number: 639QK
[31] 第三作者, Electrical transport and magnetic properties of reactive sputtered polycrystalline Ti1–xCrxN films, J. Phys. D: Appl. Phys. 43 (2010) 415003.《SCI》IDS Number: 655UK
[32] 第二作者, Influence of spin-glass-like phase on magnetic and electrical transport properties of reactive sputtered Al1?xFexN films, Appl. Surf. Sci. 257 (2011) 5698–5704.《SCI》IDS Number: 732RE
[33] 第三作者, Influence of sputter-etching of substrate on the microstructural and optical properties of ZnO films deposited by RF magnetron sputtering, Appl. Surf. Sci. 257 (2011) 5998–6003.《SCI》IDS Number: 738NQ

[34] 第三作者,First-Principles Prediction of Electronic Structure and Magnetic Ordering of Rare-earth Metals Doped ZnO, J. Alloys Compd. 617 (2014) 828-833.《SCI》IDS Number: AS2UX

[35] 第三作者, The Magnetism of Fe4N/Oxides (MgO, BaTiO3, BiFeO3) Interfaces From First-Principles Calculations, RSC Advances 4 (2014) 48848-48859.《SCI》IDS Number: AR6RQ

[36] 第三作者, First-Principles Study on The Interfacial Magnetic and Electronic Properties of Fe4N(001)/Si and Fe4N(111)/Graphene Bilayers, Comput. Mater. Sci. 96 (2015) 256-262.《SCI》IDS Number: AT4XU

[37] 第三作者,Inversion of Exchange Bias and Complex Magnetization Reversal in Full-Nitride Epitaxial γ′-Fe4N/CoN Bilayers, J. Magn. Magn. Mater. 379 (2015) 124-130.《SCI》IDS Number: AZ8XK

[38] 第三作者,Anisotropic Magnetoresistance in Facing-Target Reactively Sputtered Epitaxial γ'-Fe4N Films, Mater. Res. Bull. 65 (2015) 175-182.《SCI》IDS Number: CF0RY




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