近年来，短波段光学的发展尤其是强激光技术的出现，对光学元件表面粗糙度的要求极为苛刻。浮法抛光作为一种非接触式抛光技术，表面粗糙度可达到亚埃米级，接近原子尺寸。工件表面原子在磨料微粒的撞击作用下脱离工件主体，从而被去除。Yoshiharu Namba教授作为浮法抛光技术的创始人，长期致力于超光滑表面加工技术研究。Yoshiharu Namba教授在报告中首先介绍了其团队在浮法抛光技术上取得的新成果，详细阐述了超精密研磨技术和激光损伤测试技术。我所相关科研人员就光学超精密加工、镀膜、检测及KDP晶体元件损伤等方面问题分别进行了报告。最后，Yoshiharu Namba教授同参会人员就相关技术问题进行了深入交流，并对未来相关学科的合作进行了探讨。（恒益公司、中科院强激光材料实验室供稿）
