姓名:
张正选性别:
男
职务:
职称:
研究员
学历:
博士研究生通讯地址:
长宁路865号
电话:
62511070邮政编码:
200050
传真:
62524192电子邮件:
zxzhang@mail.sim.ac.cn


简历：
博士，研究员。1987年毕业于西安理工大学自动控制系，1993年获西安电子科技大学固体电子学与微电子学硕士学位，2000年获西安交通大学电子科学与技术博士学位。长期从事半导体材料与器件和集成电路的辐射效应及其抗辐射加固的研究工作。获2006年国家科技进步一等奖，2001年获军队科技进步一等奖，1998年获国防科工委科技进步三等奖和1997年获国防科工委科技进步二等奖。在国内外学术刊物和会议发表论80余篇。2002年通过人才引进到上海微系统与信心技术研究所工作，目前主要从事SOI器件和电路设计方面的研究工作。担任“创新三期”所级项目“特种SOI材料制备技术及其工程化应用”项目负责人。2004年带领本项目组在SIMOX材料的抗辐射改性方面取得了重要突破，实现了利用离子注入技术对SIMOX材料进行辐射加固，掌握了SIMOX材料的抗辐射加固的关键技术。目前，正在从事有关抗辐射SOI技术应用方面的研究工作。科技产出

研究领域：

社会任职：


获奖及荣誉：

代表论著：


承担科研项目情况：