工艺实验室面积3300平方米，其中500平方米是净化室和工艺线，具有以下主要设备：
karl Suss光刻机数台；
等离子增强淀积系统PECVD（PT公司产品）1套；
反应离子刻蚀系统RIE（PT公司产品）1套；
多靶离子束溅射系统（Oxford产品）1套；
双管氧化扩散系统6套；
快速热工艺系统RTP3台；
去离子水系统2套,一套为VAPONIC公司的每小时4吨、18兆欧的去离子水处理系统；
HP4062半导体常数测试仪器，电视测微仪(Leitz Latiment)，薄膜厚度测MPV SP(Leitz)，SEM系统（Cambridge）1套，C－V测试仪（MDC）1台，台阶测试仪等分析测试设备。
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复旦大学微电子学系微电子学工艺实验室简介
研究生院 免费考研网/2006-09-27
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