王庆（1970-），男，工学博士，博士后出站人员，东北大学副教授，硕士生导师，美国University of North Texas大学访问学者。联系方式：**（手机），qingwang@mail.neu.edu.cn（邮件）；
主要研究方向是：
（1）纳米薄膜的物理化学气相沉积；
（2）机械零件的等离子体表面改性；
（3）纳米薄膜的机械学性能研究。
讲授本科生课程—《过程装备控制》（课堂教学、实验）；曾经获得2008冶金部科技进步3等奖，沈阳市科技进步3等奖各一项。

近期论文：
[1] Wang Qing, Ba Dechun. The effect ions current density on target etching in Radio Frequency-Magnetron Sputtering Process. Plasma Science and Technology, 2012，14
[2] Swayambhu Behera, Qing Wang. The plasma pretreatment effects on oxygen plasma-induced carbon loss and surface roughening in an ultralow-k organosilicate glass film. J. Phys. D: Appl. Phys. 44 (2011) 155204
[3] Qing Wang, De-chun Ba. An investigation on hysteresis process of ZnO film deposition and changes of surface morphology and wettability Materials Letters 68 (2012) 320–323