基本资料

姓名： 国洪轩 性别： 男
学历： 博士研究生 生日： 1979.09
职称： 副研究员 职务：

电话： +86--8817 Email： ghx@seu.edu.cn

研究方向

原位测量技术，微流道器件设计与制备，材料表面分析技术，阻变存储器件制备技术。
个人简历

2001年获得山东大学学士学位，2001年7月至2003年9月，就职于山大鲁能信息科技有限公司，从事光学晶体加工工艺研发工作，2006年获得山东大学硕士学位，2009年9月毕获得南京大学博士学位，研究方向为阻变存储器件的设计和制备。
2009年10月至2014年9月于日本国立材料研究所进行博士后研究，研究方向为表面分析技术。2014年10月至2019年9月于美国国家标准技术研究院进行博士后研究，研究方向为原位测量技术和器件设计。

研究成果

以上研究内容发表于Nano Letters, Scientific Reports, ACS Advanced Materials and Interfaces, Applied Physics Letters 等期刊。并担任Scientific Reports，Applied Physics Letters等期刊审稿人。