姓名
张学宇
性别
男


学位
博士
出生年月
1983.06

职称
副教授
职务
教师

所在学院
材料科学与工程学院
毕业学校
大连理工大学（博士）

办公电话

电子邮箱
dlut417@163.com

社会兼职


研究方向
半导体光电材料与器件；纳米复合涂层；等离子体改性等方面。

学习与工作
经历
2002.09-2006.07，大连理工大学，材料科学与工程学院，本科生，获工学学士学位；
2006.09-2008.09，大连理工大学，材料科学与工程学院，硕士生，获工学硕士学位；
2008.09-2012.09，大连理工大学，材料科学与工程学院，博士生，获工学博士学位；
2012.11-至今 长春工业大学工作


科研项目
国家自然基金青年基金项目，基于表面等离子体改性的三维石墨烯网络复合结构柔性能量存储器件研究，2017.01-2020.12
长春市科技局项目，多弧离子镀制备nc-TiN/a-Si3N4超硬薄膜及其应用研究
长春市科技局项目，氢化纳米晶硅薄膜的制备及应用研究，2014
吉林省教育厅项目，等离子体环境对多弧离子镀制备超硬薄膜的影响研究，2015

学术成果
Xueyu Zhang, Shihan Sun, Xiaojuan Sun, Yanrong Zhao, Li Chen, Yue Yang, Wei lü* and Dabing Li*. Plasma induced nitrogen-doped graphene based aerogels for high performance supercapacitors. (Light: Science & Applications, 2016, 5, e16130; doi: 10.1038/lsa.2016.130. IF:14.5)
Qiqian gao, Xueyu Zhang*, Lianfeng Duan, Xiaoju Li, Xuesong Li, Yue Yang, Qiang Yu, Wei Lü. Improved performance of quantum dot-sensitized solar cells based on TiO2 nanoparticle/nanorod photoanodes. Journal ofAlloys and Compounds2017,715, 337-343
2.Xueyu Zhang, Xin Ge*, Shihan Sun, Yuanduo Qu, Wenzhong Chi, Chuandong Chen and Wei Lü*，Morphological control of RGO/CdS hydrogel for energy storage. CrystEngComm. 2016, 18, 1090-1095（Front cover）
3. X. Zhang, S. Sun, D. Su, H. Wu. Structure and properties of TiCuN coatings by HCD assisted AIP. Surface Engineering. 2016,32,223-228.
4.Xueyu Zhang,Aimin Wu*, Shaofei Shi, Fuwen Qin. Influence of Ar/H₂ratio on the characteristics of Boron-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition. Surface and Coatings Technology,228:412-415. 2013.
5.Xueyu Zhang,Aimin Wu*, Shaofei Shi, Fuwen Qin, Jiming Bian. Influence of Ar/H₂ratio on the characteristics of phosphorus-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor depositon. Thin Solid Films, 521: 181-184. 2012.
6.Xueyu Zhang, Aimin Wu, Hongyun Yue, Juan Hu, Lishi Wen. Preparation of p-type microcrystal Si:H films by ECR-PECVD. Materials Science Forum, 2010, 675-677: 1287-1290.
7.张学宇，吴化，刘耀东，吴爱民. Ar流量对ECR-PECVD制备氢化纳米晶硅薄膜结构及性能影响研究.人工晶体学报，42（9）：1750-1756. 2013.
8.张学宇，吴爱民，冯煜东，胡娟，岳红云，闻立时. ECR-PECVD制备n型微晶硅薄膜的研究. 人工晶体学报，39（4）：852-856，2010.

奖励与荣誉


在读学生人数
3
毕业学生人数
2

更新时间
2018年6月