研究生导师介绍
姓名： 许爽 性 别: 女 院 系： 机械自动化学院
行政职务： 专业技术职称： 讲师
毕业院校： 华中科技大学 毕业专业： 080202 机械电子工程 毕业时间： 2016.6
最后学历： 博士研究生 最后学位： 博士
办公电话： E-mail： shuangxu@wust.edu.cn
◇ 学科信息：
招生学科导师类别是否招生招生年度
机械 专业型硕导 是 2021
仪器科学与技术 学术型硕导 是 2021
机械工程 学术型硕导 是 2021

◇ 个人简介（主要研究方向、个人成果等总体介绍）
许爽，博士，讲师，硕士生导师。2016年华中科技大学工学博士，2019美国伊利诺伊大学香槟分校（UIUC）访问****。长期从事微纳米制造、精密光学检测、图像与视觉、智能仪器等方面的研究工作，主持国家自然科学基金、省自然科学基金、省科学技术研究计划项目、企业委托联合研发项目等，作为重要成员参与结题国家重大科学仪器设备开发专项、国家重大专项课题、 国家自然科学基金、高等学校博士学科点专项科研基金等。在Opt.Express、Opt.Lett.、Journal of Optics等顶级期刊发表论文8篇，获中国发明专利3件，在国际学术会议做报告8次，被英国皇家物理学会（IOP）配发专辑访谈（LabTalk），推介研究成果。获优秀毕业设计指导教师、教学优秀等荣誉，指导学生在全国及省市科技竞赛中获得奖励多项。
研究方向：IC芯片制造及检测；光刻机与光刻关键技术；光学智能监测及缺陷检测技术；机器视觉与图像处理等。
招生要求：在机械工程、仪器科学与技术两个一级学科招收硕士研究生，研究工作涉及机械、光学、信息等方面的知识。
欢迎机械、测控、光学、自动化、物理、数学、仪器仪表等相关专业的学生报考。要求英语好、严谨踏实、并具有较强独立思考与学习能力。

◇ ：在国内外核心期刊上发表学术论文情况
论文题目 刊物名称 刊物国家 收录情况 卷期 排名
Polarization aberration analysis in lithographic tools Optical Engineering 国外 EI SCI 58（8） 1
Separation of variables based method for fast calculation of imaging system in lithographic tools Proc. of SPIE 国外 EI 180111 1
Polarization aberration measurement of lithographic tools Proc. of SPIE 国外 EI 10819-11 1
A single-image method of aberration retrieval for imaging systems under partially coherent illumination Journal of Optics 国外 EI SCI 16(7) 1
Iterative method for in situ measurement of lens aberrations in lithographic tools using CTC-based quadratic aberration model Optics Express 国外 EI SCI 20(13) 2
Image based method for aberration measurement of lithographic tools Proc. of SPIE 国外 EI 10620: 106200C 1
Generalized Transport-of-Intensity Equation Based Space-Frequency Image Signal Analysis IEEE 国外 EI 131 1

◇ ：完成及承担科研项目
项目名称及下达编号 项目类别 项目来源 起讫时间 科研经费(万元) 本人承担任务
基于椭偏显微成像的超薄层状纳米结构测量理论与方法研究 国家自然科学基金项目 2018-2020 25.00 主持
表面扫描检测系统算法开发 企、事业单位委托项目 2019-2021 52.00 主持
偏振照明光刻机像差检测与重构方法研究 省（自治区、直辖市）项目 2018-2020 2.00 主持
纳米制造光学光刻关键技术研究 省（自治区、直辖市）项目 2018-2019 2.00 主持
面向纳米制造的超大数值孔径光刻关键技术研究 省（自治区、直辖市）项目 2016-2018 2.00 主持
基于散射场层析广义椭偏仪的三维纳米结构测量理论与方法 国家自然科学基金项目 2015-2018 85.00 参与
水下机器人路径规划技术开发 企、事业单位委托项目 2021 15.00 主持
FPC曝光机关键技术 企、事业单位委托项目 2019-2021 28.00 参与
光刻掩模板可制造性优化设计理论与方法 中央、国家各部门项目 2013-2016 12.00 参与

◇ ：成果获奖情况
成果名称 颁奖部门 奖项 等级 完成日期 证书号 排名
一种光刻机投影物镜波像差的测量方法 国家 发明奖 发明专利 2015-04-15 4.0 2
一种光刻掩模优化设计方法 国家 发明奖 发明专利 2016-04-13 1.6 5
一种用于暗场缺陷检测的光罩掩模板图形设计方法 国家 发明奖 发明专利 2020-11-09 27 1
一种智能手机、前置摄像及显示补偿系统及封装方法 国家 发明奖 发明专利 2021-01-20 54 2
一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法 国家 发明奖 发明专利 2019-11-25 6.6 2



◇ ：出版专著教材情况(注：在书名后注明教材或专著)
名称 类别 出版单位 日期 排名