一、姓名：王传彬

二、基本情况：

1、出生年月：1974年10月

2、学位：博士研究生

3、职称：研究员

4、工作院系：新材料研究所

三、教育经历（从大学开始）：

1993.09-1997.06 武汉工业大学材料工程专业学士

1997.09-2000.06 武汉理工大学材料学专业硕士

2000.09-2003.06 武汉理工大学材料学专业博士

四、工作经历

2003.07-2005.09 武汉理工大学新材所助理研究员

2005.10-2009.09 武汉理工大学新材所副研究员

2009.10-至今武汉理工大学新材所研究员

2005.09-2007.03日本东北大学金属材料研究所博士后

五、研究领域（不多于3个）：

先进复合材料; 功能薄膜材料

六、科研项目（不多于5项）：

1. 镧锰氧化物基智能热控梯度薄膜的复合掺杂及其发射特性研究，国家自然科学基金，2013.01—2016.12，78万，主持

2.JPPT-125-214，国家军品配套研制项目，2011.09—2013.12，220万，主持

3. BiFeO3-Zn1-xCoxO铁电-稀磁半导体异质复合薄膜的制备与性能研究，教育部新世纪优秀人才支持计划，2011.01—2013.12，50万，主持

4. BaTi2O5铁电薄膜的性能优化及其在随机存储器中的应用合作研究，湖北省国际科技合作项目，2010.01—2011.12，10万，主持

七、代表性论文及著作（不多于10项）：

1. Pulsed laser deposition of BiFeO3 thin films with large polarization on Pt(111)/Ti/SiO2/Si by controlling substrate temperature, Journal of Materials Science-Materials in Electronics, 2014, 25:82-86

2. Effects of nitrogen gas ratio on magnetron sputtering deposited boron nitride films, Vacuum, 2014, 103:68-71

3. Stoichiometric controlling of boron carbide thin films by using boron-carbon dual-targets, Applied Physics Letters, 2012, 101:141602-3

4. Preparation and characterization of transparent Bi3.6Ho0.4Ti3O12/ZnO: Al ferroelectric -semiconductor heterostructure by pulsed laser deposition, Materials Letters, 2012, 79: 173-176

5. Epitaxial integration of (100) Bi4Ti3O12 with (0001) ZnO through long-range lattice matching, Applied Physics Express, 2012, 5: 085801-3

6. Preparation and properties of Si-p/Al composites by spark plasma sintering, Materials and Design, 2012, 41:198-202

7. Preparation and property of BaTi2O5 ceramics by arc-melting and spark plasma sintering, Journal of Electroceramics, 2012, 28: 256-260

8. Preparation of ferroelectric BaTi2O5 thin films on Pt(111)/Ti/SiO2/Si substrates by pulsed laser deposition, Journal of Alloys and Compounds, 2012, 512:140-143

八、联系方式：

1、Tel： **

2、E-mail：wangcb@whut. edu.cn

3、工作地址（实验室）：梯度材料研究室(逸夫楼4楼)
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