一、姓名:章嵩
二、基本情况:
1、出生年月:1982年1月
2、学位:博士
3、职称:副研究员
4、工作院系:新材所
三、教育经历(从大学开始):
2000/09-2004/06 武汉理工大学材料科学与工程 学士
2004/09-2007/06 武汉理工大学材料学 硕士
2007/09-2010/06 武汉理工大学材料加工工程 博士
四、工作经历:
2010/09-2012/10 华中科技大学电子科学与技术系 博士后
2011/01-2012/10日本東北大学金属材料研究所 研究助手
2012/12-武汉理工大学新材料研究所副研究员
五、研究领域(不多于3个):
l无机薄膜结构与性能控制
l化学气相沉积
l物理气相沉积
六、科研项目(不多于5项):
l基于脉冲激光沉积富硼 B-C 薄膜的关键技术研究,国家自然科学基金项目
l高温超导氧化物薄膜的激光化学气相沉积技术,国家自然科学基金项目
l卤化物化学气相沉积法制备Ti-Si-C复合材料厚膜成型技术,企业委托项目
七、代表性论文及著作(不多于10项):1–10
1 S. Zhang, Z. He, X. Ji, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Understanding the deposition mechanism of pulsed laser deposited B-C films using dual-targets,” Journal of Applied Physics, 115 [15] 154906 (2014).
2 Q. Li, S. Zhang*, C. Wang, Q. Shen, W. Lu, and L. Zhang, “Structural Evolution of B-C Thin Films Deposited from SPSed-Target and Dual-Target,” Journal of the American Ceramic Society, 4 1–4 (2014).
3 C. Wang, X. Luo, S. Zhang*, Q. Shen, and L. Zhang, “Effects of nitrogen gas ratio on magnetron sputtering deposited boron nitride films,” Vacuum, 103 [5] 68–71 (2014).
4 R. Tu, P. Zhu, S. Zhang*, P. Xu, L. Zhang, H. Hanekawa, and T. Goto, “Comparison of CVD-deposited Ni and dry-blended Ni powder as sintering aids for TiN powder,” Journal of the European Ceramic Society, 34 [8] 1955–1961 (2014).
5 S. Zhang, Q. Xu, R. Tu, T. Goto, and L. Zhang, “High-Speed Preparation of <111>- and <110>-Oriented β-SiC Films by Laser Chemical Vapor Deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 97 [3] 952–958 (2014).
6 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Investigation of planar defects in pulsed electric current sintered B 13 C 2 boron carbide ceramic,” Ceramics International, 38 [1] 817–819 (2012).
7 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Stoichiometric controlling of boron carbide thin films by using boron-carbon dual-targets Stoichiometric controlling of boron carbide thin films by using boron-carbon,” Applied Physics Letters, 101 141602–1–5 (2012).
8 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Synthesis and characterization of B 13 C 2 boron carbide ceramic by pulsed electric current sintering,” Ceramics International, 38 [2] 895–900 (2012).
9 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Stoichiometric controlling of pulsed laser deposited boron – carbon thin films,” Physica B: Physics of Condensed Matter, 407 [13] 2382–2384 (2012).
10 S. Zhang, R. Tu, and T. Goto, “High-Speed Epitaxial Growth of β-SiC Film on Si(111) Single Crystal by Laser Chemical Vapor Deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 95 [9] 2782–2784 (2012).
八、联系方式:
1、Tel:86 27 8749 9409
2、E-mail:kobe@whut.edu.cn; superkobe0104@gmail.com
3、工作地址(实验室):逸夫楼506
1.Name: ZHANG Song
2.Brief introduction:
1)Date of birth: 01/1982
2)Degree: Ph.D (Engineering)
3)Title: Associate Professor
4)Working department: State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing.
3.Education experience(after entering university):
2000/09-2004/06Wuhan University of Technology, Materials Science Bachelor
2004/09-2007/06Wuhan University of Technology, Materials Science Master
2007/09-2010/06Wuhan University of Technology, Materials Science PhD
4.Working experience:
2010/09-2012/10Huazhong University of Science and Technology, Department of Electronic Science and Technology, PostPhD
2011/01-2012/10Tohoku University, Institute for Materials Research, Researcher
2012/12- Wuhan University of Technology, Associate Professor
5.Research field(no more than 3):
lThin Solid Films
lChemical Vapor Depositions (CVDs)
lPhysical Vapor Depositions (PVDs)
6.Research project(no more than 5):
lBoron-rich boron-carbon thin films frabricated by pulsed laser deposition, National Natural Science Foundation of China
lLaser chemical vapor deposition of high-temperature superconductive oxide films, National Natural Science Foundation of China
lTi-SiC-C thick films formation technology by halide chemical vapor deposition, from IBIDEN Co., Ltd.
7.Representative papers and works(no more than 10):
1 S. Zhang, Z. He, X. Ji, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Understanding the deposition mechanism of pulsed laser deposited B-C films using dual-targets,” Journal of Applied Physics, 115 [15] 154906 (2014).
2 Q. Li, S. Zhang*, C. Wang, Q. Shen, W. Lu, and L. Zhang, “Structural Evolution of B-C Thin Films Deposited from SPSed-Target and Dual-Target,” Journal of the American Ceramic Society, 4 1–4 (2014).
3 C. Wang, X. Luo, S. Zhang*, Q. Shen, and L. Zhang, “Effects of nitrogen gas ratio on magnetron sputtering deposited boron nitride films,” Vacuum, 103 [5] 68–71 (2014).
4 R. Tu, P. Zhu, S. Zhang*, P. Xu, L. Zhang, H. Hanekawa, and T. Goto, “Comparison of CVD-deposited Ni and dry-blended Ni powder as sintering aids for TiN powder,” Journal of the European Ceramic Society, 34 [8] 1955–1961 (2014).
5 S. Zhang, Q. Xu, R. Tu, T. Goto, and L. Zhang, “High-Speed Preparation of <111>- and <110>-Oriented β-SiC Films by Laser Chemical Vapor Deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 97 [3] 952–958 (2014).
6 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Investigation of planar defects in pulsed electric current sintered B 13 C 2 boron carbide ceramic,” Ceramics International, 38 [1] 817–819 (2012).
7 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Stoichiometric controlling of boron carbide thin films by using boron-carbon dual-targets Stoichiometric controlling of boron carbide thin films by using boron-carbon,” Applied Physics Letters, 101 141602–1–5 (2012).
8 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Synthesis and characterization of B 13 C 2 boron carbide ceramic by pulsed electric current sintering,” Ceramics International, 38 [2] 895–900 (2012).
9 S. Zhang*, W. Lu, C. Wang, Q. Shen, and L. Zhang, “Stoichiometric controlling of pulsed laser deposited boron – carbon thin films,” Physica B: Physics of Condensed Matter, 407 [13] 2382–2384 (2012).
10 S. Zhang, R. Tu, and T. Goto, “High-Speed Epitaxial Growth of β-SiC Film on Si(111) Single Crystal by Laser Chemical Vapor Deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 95 [9] 2782–2784 (2012).
8. Contact information:
1) Tel: 86 27 8749 9409
2) E-mail: kobe@whut.edu.cn; superkobe0104@gmail.com
3) Location of lab: room 506, Fifu bld.
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武汉理工大学材料科学与工程学院导师简介-章嵩
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