姓名：翁俊
职称：讲师
邮箱：@qq.com
地址：湖北省武汉市武汉工程大学材料科学与工程学院A206


教育及工作经历
2014年-今：武汉工程大学材料科学与工程学院，材料物理专业，讲师
2011年-2014年：中科院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所，等离子体物理专业，博士学位
2008年-2011年：武汉工程大学材料科学与工程学院，材料学专业，硕士学位
2004年-2008年：武汉工程大学材料科学与工程学院，材料物理专业，学士学位

研究方向
等离子体技术及应用
微波等离子体化学气相沉积技术及应用
金刚石材料的制备及应用

主讲课程
材料导论（本科生）
等离子体化学与工艺（研究生）
等离子体诊断（研究生）

科研项目
横向基金：微波等离子体外延生长单晶金刚石工艺及设备的研发，2017年，主持。
横向基金：专业设备升降机系统的研制，2015年，主持。
湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目：微波谐振腔模式转换器的研究，2015年，参与。

代表性成果
论文
(1)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Investigation onthe influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogenimpurity incorporated in nanocrystalline diamond films. Journal of CrystalGrowth, 2018, 495:1-8.
(2)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Deposition of large areauniform diamond films by microwave plasma CVD. Vacuum, 2018, 147: 134-142.
(3) Weng J , Wang J H , Dai S Y , et al. Preparation ofdiamond films with controllable surface morphology, orientation and quality inan overmoded microwave plasma CVD chamber. Applied Surface Science, 2013,276(276):529-534.
(4) Weng J , Xiong L W , Wang J H , et al. Investigation ofdepositing large area uniform diamond films in multi-mode MPCVD chamber.Diamond & Related Materials, 2012, 30:15-19.
(5) Weng J , Xiong L , Wang J , et al. Effect of Gas Sourceson the Deposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by MicrowavePlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Plasma Science and Technology, 2010,12(6):761-764.