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华南理工大学材料科学与工程学院研究生导师介绍季小红

华南理工大学 免费考研网/2012-10-27

导师姓名:季小红
性别:
职称:副教授
招生专业:材料物理与化学
招生层次:招收硕士研究生
招生专业所属院系:材料科学与工程学院
研究方向:电子材料,宽禁带半导体材料,稀磁半导体
联系电话:020-87111224
电子邮件:jxhong@scut.edu.cn
备注:
导师简介:
季小红,1972年出生于江苏南通。先后在桂林工学院、上海大学、新加坡南洋理工大学获学士、硕士和博士学位。2006年至2007年在新加坡南洋理工大学电子与电气工程学院任副研究员(Researchassociate),研究员(Researchfellow)。2008年12月华南理工大学“百人计划”“杰出青年教师”岗位引进人才。在Adv.Funct.Mater.,Appl.Phys.Lett.,J.Appl.Phys.,JPhys.D等国际期刊上发表论文20篇,文章被他人引用近130次。

研究方向:宽禁带半导体薄膜材料、纳米材料及其应用。

科研项目:
1.教育部留学回国人员科研启动基金(2008年)
2.教育部博士点基金新教师类项目(20090172120014)
3.广东省自然科学博士启动基金(9451064101002440)

部分发表论文:
1.X.H.Ji,Q.Y.Zhang,Z.Y.Ling,S.P.Lau,StressanditseffectonopticalpropertiesofAlNnanorods,Appl.Phys.Lett.95(2009)233105.
2.X.H.Ji,Q.Y.Zhang,S.P.Lau,H.X.JiangandJ.Y.Lin,Temperature-dependentphotoluminescenceandelectronfieldemissionpropertiesofAlNnanotiparrays,Appl.Phys.Lett.94(2009)173706.
3.X.H.Ji,S.P.Lau,S.F.Yu,H.Y.Yang,T.S.Herng,A.Sedhain,J.Y.Lin,H.X.Jiang,K.S.Teng,J.S.Chen,UltravioletphotoluminescencefromferromagneticFe-dopedAlNnanorods,Appl.Phys.Lett.90(2007)193118.VirtualJournalofNanoscaleScience&Technology15(20)(2007).
4.X.H.Ji,S.P.Lau,S.F.Yu,H.Y.Yang,andT.S.Herng,FerromagneticCu-dopedAlNnanorods,Nanotechnology18(2007)105601.
5.X.H.Ji,S.P.Lau,H.Y.YangandS.F.Yu,AlignedInNnanofingerspreparedbyion-beamassistedfilteredcathodicvacuumarc,Nanotechnology16(2005)3069.
6.X.H.Ji,S.P.Lau,H.Y.YangandQ.Y.Zhang,StructuralandopticalpropertiesofwurtziteInNgrownonSi(111),ThinSolidFims515(2007)4619.
7.X.H.JiandS.P.Lau,PolycrystallineInNthinfilmspreparedbyionbeamassistedfilteredcathodicvacuumarctechnique,J.Cryst.Growth282(2005)271.
8.X.H.Ji,S.P.Lau,G.Q.Yu,W.H.ZhongandB.K.Tay,StructuralpropertiesandnanoindentationofAlNfilmsbyfilteredcathodicvacuumarcatlowtemperature,J.Phys.D:Appl.Phys.37(2004)1472.
9.X.H.Ji,S.P.Lau,G.Q.Yu,W.H.ZhongandB.K.Tay,Nitrogen-ion-energydependentopticalandstructuralpropertiesofAlNfilmsobtainedusingafilteredcathodicvacuumarc,J.Phys.D:Appl.Phys.36(2003)2543.
10.X.H.Ji,andJ.W.Zhai,GrowthofGaNfilmsonSi(100)bufferedwithZnObyion-beam-assistedfilteredcathodicvacuumarctechnique,J.Electron.Mater.37(2008)573.

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