姓名：唐伟忠
所在系所：功能材料研究所
职务：副主任
职称：教授
通信地址：北京科技大学
邮编：100083
办公地点：金属物理楼204
电话：62334144
传真：010-62334144
邮箱：
主要研究领域
研究领域集中于“薄膜材料及其制备技术(Thinsolidfilmsandtheirdepositiontechnologies)”，这是一个涉及了材料科学与工程、真空技术与等离子体物理等学科，主要强调各种新型薄膜材料的制备方法、薄膜材料的微观结构以及薄膜材料的使用性能的交叉学科。
目前，唐伟忠教授的研究领域主要涉及：
1．高品质、大面积金刚石膜的化学气相沉积技术及应用
2．AlN、类金刚石等新型薄膜材料的制备方法
3．薄膜沉积技术中的等离子体
发表论文著作
1）近5年发表的主要论文：
1.H.Liu,W.Tang,D.Hui,L.Hei,F.Lu,Characterizationof(Al,Si)Nfilmsdepositedbybalancedmagnetronsputtering,toappearinThinSolidFilms(2009).
2.Meng,X.M.,Askari,S.J.,Tang,W.Z.,Hei,L.F.,Wang,F.Y.,Jiang,C.S.,Lu,F.X.,Nano-crystallineCVDdiamondfilmsdepositedoncementedcarbideusinghighcurrentextendedDCarcplasmaprocess,Vacuum,82(2008)543.
3.Meng,X.M.,Tang,W.Z.,Hei,L.F.,Li,C.M.,Askari,S.J.,Chen,G.C.,Lu,F.X.,ApplicationofCVDnanocrystallinediamondfilmstocementedcarbidedrills,Int.J.Refract.MetalsandHardMater.,26(2008)485.
4.Zhao,H.F.,Tang,W.Z.,Li,C.M.,Chen,G.C.,Lu,F.X.,Cai,Y.H.,Guo,H.,Zhang,R.Q.,Zhang,P.W.,ThermalconductivepropertiesofNi-PelectrolessplatedSiCp/Alcompositeelectronicpackagingmaterial,Surf.&Coat.Technol.,202(2008)2540.
5.Geng,C.L.,Tang,W.Z.,Hei,L.F.,Liu,S.T.,Lu,F.X.,Fracturestrengthoftwo-steppretreatedanddiamondcoatedcementedcarbidemicrodrills,Int.J.Refract.MetalsandHardMater.,25(2007)159.
6.Fan,F.,Tang,W.,Liu,S.,Hei,L.,Li,C.,Chen,G.,Lu,F.,AnefforttoenhanceadhesionofdiamondcoatingstocementedcarbidesubstratesbyintroducingSiontotheinterface,Surf.&Coat.Technol.,200(2006)6727.
7.Lu,F.X.,Tang,W.Z.,Tong,Y.M.,Miao,J.Q.,He,L.F.,Li,C.M.,Chen,G.C.,Novelpretreatmentofhardmetalsubstrateforbetterperformanceofdiamondcoatedcuttingtools,Diam.&Relat.Mater.,15(2006)2039.
8.F.Lu,W.Tang,etal,Dielectricpropertyofthickfreestandingdiamondfilmsbyhighpowerarcjetoperatingatgasrecyclingmode,Diam.&Relat.Mater.,13(2004)1714.
9.T.Huang,W.Tang,F.Luetal,Argon-to-hydrogenratioinplasmajetdiamondchemicalvapordeposition,Surf.&Coat.Technol.,190(2005)48.
10.J.Miao,W.Tang,andF.Lu,Effectofatwo-steppretreatmentmethodonadhesionofCVDdiamondcoatingsoncementedcarbidesubstrates,Surf.&Coat.Technol.,187(2004)33.
11.F.Lu,W.Tang,etal,Oxidationbehaviorofhighqualityfreestandingdiamondfilmsbyhighpowerarcjetoperatingatgasrecyclingmode,Diam.&Relat.Mater.,13(2004)533.
12.J.Yang,F.Lu,W.Tang,EffectsofnitrogenadditiononmorphologyandmechanicalpropertyofDCarcplasmajetCVDdiamondfilms,Diam.&Relat.Mater.,13(2004)139.
13.吕反修,唐伟忠，李成明,宋建华,黑立富，直流电弧等离子体喷射在金刚石膜制备和产业化中的应用，金属热处理，第33卷第1期，2008年，43。
14.王凤英,孟宪明,唐伟忠，吕反修，圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟，真空与低温，14卷第3期，2008年，157。
15.王凤英,郭会斌,唐伟忠，吕反修，圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较，人工晶体学报，第37卷第4期，2008年，895。
16.方建锋，唐伟忠，张晋远，郑毅，X-射线掠入射法测定金刚石薄膜厚度的研究，物理测试，2007年，第25卷第4期，8。
17.刘伟，唐伟忠，黑立富，蒋开云，工频脉冲激励条件下线形微波H2等离子体的Langmuir探针诊断，真空科学与技术学报，2007年，第27卷第4期，312。
18.孟宪明，唐伟忠，黑立富，王凤英，姜春生，吕反修，强电流直流伸展电弧CVD纳米金刚石涂层微型工具，金刚石与磨料磨具工程，2007年第5期，22。
19.苗晋琦，王成彪，吕建国，张玉英，唐伟忠，吕反修，渗硼+两步处理硬质合金微米2纳米金刚石复合涂层工具研究，金刚石与磨料磨具工程，2007年第1期，1。
20.刘素田，刘伟，黑立富，唐伟忠，吕反修，含Si金刚石涂层的工艺研究，北京科技大学学报，29卷第四期，2007年，409。
21.孟宪明，唐伟忠，黑立富，化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具及其应用，新材料产业2006年第10期，65。
22.刘素田,黑立富,耿春雷,唐伟忠，吕反修，强电流直流扩展弧金刚石沉积技术的研究，表面技术，2006年6月，第35卷第3期，42。
23.苗晋琦，王成彪，张鬲君，吕建国，唐伟忠，吕反修，渗硼并两步处理硬质合金微晶金刚石涂层工具研究，人工晶体学报，2006年6月，第35卷第3期，518。
24.唐伟忠，蒋开云，耿春雷，黑立富，线形微波等离子体CVD金刚石薄膜沉积技术，真空科学与技术学报，2006年，第26卷第3期，251。
25.耿春雷，黑立富，刘素田，唐伟忠，吕反修，硬质合金微型钻头金刚石涂层预处理工艺对其断裂强度的影响，金刚石与磨料磨具工程，2006年第6期，36。
26.刘素田，唐伟忠，耿春雷，吕反修，纳米金刚石薄膜的制备和应用，金刚石与磨料磨具工程，2006年第1期，75。
27.黑立富，唐伟忠，樊凤玲，耿春雷，吕反修，线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积，人工晶体学报，34（2005）794。
28.苗晋琦，张鬲君，王成彪，吕建国，唐伟忠，吕反修，酸浸+等离子体刻蚀YG6微米-纳米金刚石复合涂层工具研究，金刚石与磨料磨具工程，2005年第5期，18。
29.樊凤玲，唐伟忠，黑立富，吕反修，刘素田，化学气相沉积过程中Si的引入对硬质合金金刚石涂层附着力的影响，金刚石与磨料磨具工程，2005年第1期，31。
30.杨志威,陈立民,耿春雷,唐伟忠,吕反修,苗晋琦,赵中琴，线形同轴耦合式微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜，人工晶体学报，33，2004，432。
获得主要荣誉
1998年，获北京市高校青年学术带头人称号
2001年，获北京市科技进步二等奖（第二获奖人）
