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邱宏
教授,博士生导师

邱宏
教授,博士生导师
数理学院院长
物理系

办公地点：理化楼239室
办公电话：62333786
本科课程：光学、光电子技术、薄膜材料与器件

研究生课程：微米纳米技术物理、物理学在高新技术中的应用

科研方向：（1）金属薄膜、磁性薄膜、透明导电薄膜和铁电体薄膜的结构和物理性质及其
制备方法；
（2）压电晶体薄膜、磁电阻和巨磁电阻薄膜；
（3）低温外延生长技术；
（4）电子显微技术；
（5）导电聚合物复合材料的研究；
（6）导电聚合物薄膜材料。
社会职务：2004年至2011年中国物理学会第八届、第九届教学委员会副秘书长。
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简历

1981年9月至1985年7月在北京钢铁学院物理系学习，获得理学学士学位；
1985年9月至1988年7月在北京科技大学物理系学习，获得理学硕士学位；
1988年9月至1989年9月在北京科技大学物理系工作，助教；
1989年10月至1990年10月在日本东京国际大学附属日语学校学习；
1990年11月至1991年3月在日本国立电气通信大学电子物性专业学习，
研修生；
1991年4月至1994年3月在日本国立电气通信大学电子物性专业学习，获得
理学博士学位；
1994年4月至1996年2月在日本国立电气通信大学电子物性专业工作，助教；1996年3月至1999年11月在精工爱普生（Seiko-Epson）集团公司工作，
高级研究员；
1999年12月至2010年8月在北京科技大学应用科学学院物理系任教，教授，
副院长（2001-2003年），院长（2004-2010年）；
2010年9月至今在北京科技大学数理学院物理系任教，教授，院长。

代表性论文论著

发表学术论文95篇，其中被SCI收录71篇，获得中国、美国、欧洲、日本发明专利33项。学术成果被他人引用570次，发明专利引用的企业包括美国微软公司、美国摩托罗拉公司、美国施乐公司、美国飞思卡尔半导体公司、美国安捷伦公司、日本索尼公司、日本东芝公司、日本佳能公司、日本松下电器工业公司、日本富士通公司、日本TDK公司、日本兄弟工业公司、韩国三星电子公司、韩国LG电子公司、德国阿克发—盖瓦尔特集团等36家企业。
近五年代表性学术论文（2008—2012）
(1)HuaZong,HongQiu,YuepingZuo,RuqiangZheng,JinglePan,JianpingHe,
Structural,electricalandmagneticpropertiesofFenetworkfilmsgrownon
nanochannelAl2O3substratesbydirectcurrentmagnetronsputteringwiththe
obliquetarget,AppliedSurfaceScience,258(2012)3237–3243.
(2)YuepingZuo,HongQiu,XiaobaiChen,JianpingHe,Structural,electricaland
photoluminescencepropertiesofZnO:Alnetworkfilmsgrownonnanochannel
Al2O3substratesbydirectcurrentmagnetronsputteringwithanobliquetarget,
MaterialsChemistryandPhysics,133(2012)507–514.
(3)RongchengLiu,HongQiu,HuaZong,ChunyingFang,Fabricationand
CharacterizationofCompositeContainingHCl-DopedPolyanilineandFe
Nanoparticles,JournalofNanomaterials,Volume2012,ArticleID674104,7
pages.
(4)GuoshouZou,HongQiu,YuepingZuo,HuaZong,JianpingHe,Comparative
studyonthecharacteristicsofnetworkandcontinuousNifilms,ThinSolid
Films,520(2012)6024–6030.
(5)XinlianLi,PingWu,HongQiu,SenChen,BinbinSong,Crystallizationbehavior
andmechanicalpropertiesoferbiumoxidecoatingsfabricatedbypulsed
magnetronsputtering,ThinSolidFilms,520(2012)2316–2320.
(6)MeiqinZhang,GangQin,YuepingZuo,TingZhang,YangZhang,LeiSu,Hong
Qiu,XuejiZhang,SECMimagingoflatentfingerprintsdevelopedbydeposition
ofAl-dopedZnOthinfilm,ElectrochimicaActa,78(2012)412–416.
(7)YunliangWang,ZhongxiangZhou,HongQiu,FengpingWang,YanzhenLu,The
quantumdustymagnetosonicsolitarywaveinmagnetizedplasma,Physicsof
Plasmas,19(2012)013704.
(8)H.Li,H.Qiu,M.P.Yu,X.C.Chen,Structural,electricalandphotoluminescence
propertiesofZnO:AlfilmsgrownonMgO(001)bydirectcurrentmagnetron
sputteringwiththeobliquetarget,MaterialsChemistryandPhysics,126(2011)
866–872.
(9)M.P.Yu,H.Qiu,X.C.Chen,H.Li,W.Gong,AlandNico-dopedZnOfilms
withroomtemperatureferromagnetism,lowresistivityandhightransparence,
MaterialsChemistryandPhysics,126(2011)797–803.
(10)M.P.Yu,H.Qiu,X.C.Chen,Effectofvacuummagneticannealingonthe
structuralandphysicalpropertiesoftheNiandAlco-dopedZnOfilms,Thin
SolidFilms,518(2010)7174–7182
(11)R.C.Liu,H.Qiu,H.Li,H.Zong,C.YFang,Fabricationandcharacteristicsof
compositecontainingHCl-dopedpolyanilineandNinanoparticles,Synthetic
Metals,160(2010)2404–2408.
(12)M.Yu,H.Qiu,X.Chen,H.Liu,Magnetic,magnetoresistanceandelectricaltransportpropertiesofNiandAlco-dopedZnOfilmsgrownonglasssubstratesbydirectcurrentmagnetronco-sputtering,MaterialsChemistryandPhysics,120(2010)571–575.
(13)G.Ren,H.Qiu,Q.Wu,H.Li,H.Fan,C.Fang,ThermalstabilityofcompositescontainingHCl-dopedpolyanilineandFeNanoparticles,MaterialsChemistryandPhysics,120(2010)127–133.
(14)H.Liu,H.Qiu,X.Chen,M.Yu,M.Wang,StructuralandphysicalpropertiesofZnO:Alfilmsgrownonglassbydirectcurrentmagnetronsputteringwiththeobliquetarget,CurrentAppliedPhysics,9(2009)1217–1222.
(15)M.Yu,H.Qiu,X.Chen,H.Liu,M.Wang,StructuralandphysicalpropertiesofNiandAlco-dopedZnOfilmsgrownonglassbydirectcurrentmagnetronco-sputtering,PhysicaB,404(2009)1829–1834.
(16)Y.Yang,H.Qiu,X.Chen,M.Yu,CharacteristicsofNifilmsdepositedonSiO2/Si(100)andMgO(001)bydirectcurrentmagnetronsputteringsystemwiththeobliquetarget,AppliedSurfaceScience,255(2009)6226–6231.
(17)M.Yu,H.Qiu,X.Chen,P.Wu,Y.Tian,Comparativestudyofthecharacteristics
ofNifilmsdepositedonSiO2/Si(100)byoblique-anglesputteringand
conventionalsputtering,ThinSolidFilms,516(2008)7903-7909.
(18)H.Qiu,M.Yu,J.Shi,Y.Nakamura,S.Nagayama,M.Hashimoto,Temperature
dependenceofthemagnetizationofnanostructuredNifilms,Vacuum,82(2008)
1318-1320.

科研业绩

（1）中关村风险投资开发项目“磁电阻、巨磁电阻及磁性功能材料的研究”，200万元。
（2）北京市共建项目“利用细胞核受体开发治疗药物和保健产品”，100万元，负责“生物用导电薄膜的研究”。

获得奖励/专利

1999年研制开发的喷墨打印机的核心部件打印头获精工爱普生（Seiko-Epson）
集团优秀专利发明奖（SP11880型宽幅喷墨打印机）；
2004年研制开发的薄膜生长过程动态特性监测及电阻率、磁电阻测量装置获第
三届全国物理实验教学仪器评比一等奖（在全国三十多所高校使用）；
2004年获宝钢教育基金优秀教师奖；
2008年获北京市教育教学成果奖（高等教育）二等奖；
2008年获得北京市教育创新标兵称号；
2008年“磁敏感元件、磁场特性、磁敏传感器系列综合实验仪”获全国首届高
等学校自制教学仪器设备评比优秀成果奖；
2009年获北京市高等学校教学名师奖。