光学干涉在二次电光系数测量中的应用与分析
APPLICATION AND ANALYSIS OF THE OPTICAL INTERFERENCE IN THE QUADRATIC ELECTRO-OPTIC COEFFICIENT MEASUREMENT 田浩;周忠祥;王晓鸥;宫德维;霍雷;张宇; 1:哈尔滨工业大学物理系 摘要(Abstract)：

为了更加深入地掌握光学干涉原理以及晶体材料的电光效应,我们搭建了利用干涉原理的典型光学系统——马赫-曾德尔电光系数干涉测量系统.首先,结合光学干涉原理和晶体材料的二次电光效应,进行了详细的理论推导,证明了测量方法的正确性和可行性.之后,以钽铌酸钾钠(KNTN)晶体作为研究对象,在实验中测量得到了其二次电光系数s11为2.28×10-15 m2·V-2.在此过程中,通过对马赫-曾德尔光学干涉测量系统的理论剖析与实际应用,相信可以帮助同学们更深入地理解和掌握光学干涉、晶体折射率及其电光效应的本质与原理.

关键词(KeyWords)： 电光效应;;电光系数;;干涉

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 黑龙江省新世纪高等教育教学改革项目;;黑龙江省教育科学“十二五”规划2012年度省重点课题“物理学拓展与创新人才的培养”(JJB1212030);;哈尔滨工业大学研究生教育教学成果奖培育项目

作者(Author): 田浩;周忠祥;王晓鸥;宫德维;霍雷;张宇;

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参考文献(References)： [1]蔡履中.光学[M].北京:科学出版社,2007.
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