超临界二氧化碳在微电子技术中的应用
外文标题：Application of supercritical CO2 in microelectronics industry processing
文献类型：期刊
作者：刘建慧[1]
机构：鲁东大学,化学与材料科学学院,山东,烟台,264025;中国人民大学,化学系,北京,100872;栖霞市实验中学,山东,栖霞,265300
年：2008
期刊名称：应用化工
卷：37
期：3
页码范围：330-333
增刊：增刊
收录情况：中国科技核心期刊
所属部门：化学系
语言：中文
ISSN：1671-3206
链接地址：http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_sxhg200803029.aspx
DOI：10.3969/j.issn.1671-3206.2008.03.029
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基金：国家自然科学基金
关键词：超临界流体;微电子;清洗;干燥
摘要：超临界流体和高压液体在微电子领域的应用得到了广泛的研究,研究内容主要集中在芯片清洗,光刻胶去除,清洗后干燥等方面.此外,超临界流体还在低介电材料的保护和修复,显影和旋涂,微器件制造等方面有非常好的应用前景.上述超临界过程常可以解决常规处理无法解决的问题,极大的发挥了超临界流体的优势,将会是未来超临界流体的主要应用方向.
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