5月24日上午，应电子信息工程学院微电子学系邀请，莫斯科国立工业大学（Moscow Technological University）教授康斯坦丁？伏罗希洛夫（Konstantin Vorotilov ）来我校做了题为《Chemical Solution Deposition for Micro- and Nanoelectronics》的学术讲座，讲座由微电子学系主任张静老师主持，电子信息工程学院各专业研究生聆听了讲座。

Konstantin Vorotilov教授的讲座研究了电介质的制备和铁电薄膜的电子应用，并将重点放在完善微观结构和电学特性的方法上。他还介绍了低k互连绝缘电介质的制备技术，讨论了制备低k材料的不同的方法：包括有机硅酸盐，甲基倍半硅氧烷，复合材料，以及不同种类的纳米多孔结构。Konstantin Vorotilov教授还对陶瓷薄膜的溶胶—凝胶工艺处理以锆钛酸铅（PZT）和钛酸锶钡（BST）作为实例进行讨论。分析了强电介质薄膜的溶胶 - 凝胶处理问题以及成膜溶液的合成方法，沉积和结晶过程等。
Konstantin Vorotilov，男，博导，莫斯科理工大学（MIREA）教授。主要从事微电子低K电介质材料领域研究。