简介：

陈弘：1984年 西安交通大学电子工程系半导体器件专业毕业，获得学士学位，1992年中国科学院物理研究所获得博士学位，1992年至今从事分子束外延和MOCVD半导体材料生长及结构与物性研究。1996年～1997年 香港科技大学访问工作，从事电镜研究。在国外主要刊物上发表论文70多篇，申请专利20多项。现为物理所新型化合物半导体材料和物性研究课题组长。
详见课题组网址：http://e03.iphy.ac.cn/
主要研究方向：

主要的研究方向为GaN基材料的MOCVD生长及物性研究，GaN基材料在发光二极管、激光器、紫外探测器、微电子方面的应用研究，GaAs基、SiGe材料的MBE材料生长和物性研究。
过去的主要工作及获得的成果：

1.发明了一种新的SiGe生长技术。采用低温Si作为应力释放的牺牲层的方法得到了位错密度低于106cm-2的完全弛豫的SiGe层.
2.对GaAs(001)衬底上生长GaN薄膜的相结构的控制进行了系统的研究，提出了完全不同于国外已经报道的影响GaN外延层相结构的生长机制如氮化及其温度和时间、As压的使用等.
3.在GaN基发光二极管外延片的研究中解决了大失配外延，量子阱的生长，发光二极管的结构的生长和设计的问题。GaN HEMT的研究解决了GaN的半绝缘和AlGaN的生长和HEMT的结构优化。
承担了863、科学院创新、973和基金等课题。
代表性论文及专利：

详见课题组网址：http://e03.iphy.ac.cn/??
目前的研究课题及展望：

目前承担863课题、973课题、院创新GaN发光二极管，HEMT和GaAs微电子和探测器等方面的课题。
培养研究生情况：

联合培养了博士研究生15名，在读博士研究生5名电话：
Email：
hchen@iphy.ac.cn