简介：

1982年和1989年在哈尔滨工业大学材料科学系获学士和硕士学位，1997年7月在中科院物理所获凝聚态物理理学博士学位，现为中科院物理研究所研究员。97年获中科院院长奖学金优秀奖，98年获国家发明专利一项，1999年和2002年作为访问****在德国卡斯鲁尔研究中心纳米技术研究所分别工作一年和三个月。现为美国材料研究会（MRS）会员，中国物理学会表面界面专业委员会秘书长,北京市物理学会理事,中国金属学会材料科学专业委员会理事。
主要研究方向：

低维纳米结构的生长与物性研究
过去的主要工作及获得的成果：

等离子体源离子注入材料表面改性及机理研究；纳米晶态WO3光致变色薄膜制备、表面结构及光致变色机理研究；金属-生物陶瓷薄膜的制备及界面结构研究；液态金属薄膜中的扩散过程研究；半导体材料表面结构的STM研究等。其中，首次提出等离子体源材料内表面离子注入新方法，并推导出鞘层扩展动力学方程；发现溶液过程对WO3薄膜颗粒尺寸和结晶性的明显裁剪作用；在德国Karlsruhe研究中心纳米技术研究所观察到TaS2层状化合物表面室温超大尺寸CDW畴结构相。目前主要从事低维纳米结构的生长与物性研究。
目前的研究课题及展望：

目前主要从事低维纳米结构的生长与物性研究。
培养研究生情况：

联合培养博士生硕士生各一名,在读博士生一名。电话：
Email：
sunmu@iphy.ac.cn