报告中,Martin Oestreich教授主要介绍了协同Si-H键活化催化生成正离子的方法,包括详细的异Si-H键裂解机理分析,并利用该催化模式实现了亲电C-H键硅基化、硼基化和亚锡基化。此外,还讨论了Friedel-Crafts C-H型硅基化和硼基化的其他方法。报告结束后,Martin Oestreich教授与在场师生就报告内容进行了深入交流与探讨。
Martin Oestreich教授1999年博士毕业于德国明斯特大学,随后在美国加利福尼亚大学从事博士后研究,现就职于德国柏林工业大学。至今已在Nature Chem.、Nature Commun.、JACS.、Angew. Chem.等国际著名学术期刊发表论文270余篇。
吴骊珠研究员为Martin教授颁发Future Science & Technology Lecture荣誉奖章