基本信息
杨明红男硕导中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件： yangmh@siom.ac.cn
通信地址： 上海市嘉定区汇旺东路899号
邮政编码：
部门/实验室：光学中心
研究领域

招生信息
招生专业080300-光学工程
080503-材料加工工程
070207-光学

招生方向光学元件超精密加工技术，全口径收敛性抛光技术


教育背景2007-09--2012-06中科院上海光机所工学博士
1999-09--2003-07河南大学物理系理学学士

学历
学位

工作经历
工作简历2012-07~现在,中科院上海光机所,高级工程师（副研级）
2007-09~2012-06,中科院上海光机所,工学博士
2003-07~2007-07,河南师范大学附属中学,物理教师
1999-09~2003-07,河南大学物理系,理学学士

社会兼职

教授课程

专利与奖励
奖励信息
专利成果（ 1 ） 平板类光学元件环抛面形精调方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 8.7
（ 2 ） 环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 2.3
（ 3 ） 基于大数据分析的智能环抛交叉修复调拨系统, 2018, 第 2 作者, 专利号: 6.5


出版信息
发表论文（1）Analysis of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing,SPIE,2018,第2作者
（2）Experimental research of the deterministic controlling process of surface figure in the large-aperture annular polishing,SPIE,2017,第1作者
（3）Numerical simulation of pitch button blocking optimization,Third European Seminar on Precision Optics Manufacturing,2016,第3作者
（4）Real-time surface figure monitoring of optical elements in continuous polishing,COL,2015,第3作者
（5）The simulation of workpieces' surface in polishing,SPIE,2015,第3作者
（6）Subsurface Damage Characterization of Ground Fused Silica by HF Etching Combined with Polishing Layer by Layer,Chinese Journal of Lasers,2012,第1作者
（7）抛光表面结构特征的蚀刻和热退火表征,中国激光,2012,第1作者

发表著作

科研活动
科研项目（ 1 ） 光学元件批量制造中试验证（上海基地）, 主持,国家级,2016-01--2018-12

参与会议（1）Analysis and optimization of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing2017-10-12


合作情况
项目协作单位

指导学生