基本信息
胡松男博导中国科学院光电技术研究所
电子邮件： husong@ioe.ac.cn
通信地址： 四川成都双流西航港光电大道1号
邮政编码： 610209

部门/实验室：四室
研究领域微细加工装备整机及关键技术研究
微细加工装备是各种集成电路、芯片及各种微纳结构制造的母机，是信息化时代的基石。高端微细加工装备研制极具难度，代表了现代工业制造最高水平。
本研究领域是光电所特色研究领域之一，包括照明、物镜、对准、检焦、工件台等关键技术，以及整机控制、软件，集成、调试及性能检测等多项研究内容，涉及光学、机械、电控及软件多个学科方向，对基础理论及工程实践能力有极高的要求。



招生信息
招生专业080402-测试计量技术及仪器

招生方向微纳光刻
微细加工装备整机及关键技术
测试仪器


教育背景
学历 中科院光电所 1999 研究生毕业

学位 中科院光电所 1999 工学博士学位


工作经历
工作简历2002-01~现在,中国科学院光电技术研究所,研究员
1999-01~2001-12,中国科学院光电技术研究所,副研究员
1993-01~1998-12,中国科学院光电技术研究所,助理研究员
1988-08~1992-12,中国科学院光电技术研究所,研究实习员

社会兼职2014-12-01-今,中国仪器仪表学会精密机械分会, 理事
2012-01-01-今,国家专家库专家,
2012-01-01-今,国家****评审专家,
2011-01-01-今,全国半导体设备和材料标准化委员会微光刻分会, 副主任委员
2010-01-01-今,中国电子工业专用设备行业协会, 理事


教授课程微细加工光刻技术及装备
微细加工光刻技术
光学投影曝光微纳加工技术


专利与奖励
奖励信息（1） 四川省第七届劳模, , 省级, 2015
（2） 国务院政府津贴, , 国家级, 2015
（3） 朱李月华教师奖, 院级, 2015
（4） 全国半导体设备和材料标准化技术委员会，标准化工作优秀个人, , 其他, 2014
（5） 中国科学院成都分院优秀导师, , 研究所（学校）, 2012
（6） 中国科学院优秀共产党员, , 研究所（学校）, 2011
（7） 四川省有突出贡献优秀专家, , 省级, 2010

专利成果（ 1 ） 一种基于光栅泰伯效应的检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 7.0
（ 2 ） 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 5.1
（ 3 ）  一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 6.6
（ 4 ）  一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 7.9
（ 5 ）  一种有限元仿真分析中的轴承简化方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 6.5
（ 6 ） 一种单倍率对称式投影曝光物镜, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 6.X
（ 7 ）  一种掩模与基底六自由度对准装置, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 6.3
（ 8 ） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 2.6
（ 9 ）  一种叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 9.6
（ 10 ） 用于生物芯片扫描仪的二维扫描方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 2.8
（ 11 ） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 0.1
（ 12 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 0.0
（ 13 ）  一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 6.2
（ 14 ） 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 3.X
（ 15 ）  一种径向零附加力转台, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 6.3
（ 16 ） 一种气浮导轨 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 3.0
（ 17 ） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 6.6
（ 18 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 7.9
（ 19 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 0.0
（ 20 ） 一种用于光刻精密工件台的针孔检测镜头, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 3.2
（ 21 ） 一种DMD无掩模光刻机的投影物镜镜头, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 6.7
（ 22 ） 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: 6.4
（ 23 ） 一种大视场大数值孔径紫外光投影光刻物镜镜头, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 9.6
（ 24 ） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 0.1
（ 25 ） 一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜, 发明, 2016, 第 4 作者, 专利号: 0.2
（ 26 ） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 6.2
（ 27 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 实用新型, 2015, 第 2 作者, 专利号: 1.7


出版信息
发表论文（1）基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法,光学学报,2015,第2作者
（2）基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究,光学学报,2015,第4作者
（3）利用光子筛产生局域空心光束,光学学报,2015,第3作者
（4）Adjustment strategy for inclination moiré fringes in lithography by spatial frequency decomposition,IEEE Photonics Technology Letters,2015,第2作者
（5）An artificial compound eye of photon Sieves,Optics and Laser Technology,2015,第2作者
（6）Gap-optimized Moiré phase imaging alignment for proximity lithography,Optical Engineering,2015,第2作者
（7）Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment,IEEE Photonics Technology Letters,2015,第3作者
（8）Wafer focusing measurement of optical lithography system based on Hartmann-Shack wavefront testing,Optics and Lasers in Engineering,2015,第2作者
（9）Moire fringe alignment using composite circular-line gratings for proximity lithography,OPTICS EXPRESS,2015,第3作者
（10）Spectrum-Integral Talbot Effect for UV Photolithography With Extended DOF,IEEE Photonics Technology Letters,2015,第3作者
（11）Moiré-Based Interferometry for Magnification Calibration of Bi-telecentric Lens System,IEEE PHOTONICS JOURNAL,2015,通讯作者
（12）Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography,IEEE Photonics Journal,2014,第2作者
（13）Four-quadrant gratings moire fringe alignment measurement in proximity lithography,OPTICS EXPRESS,2013,第2作者
（14）Theoretical model for manipulating light distribution in the time domain by using a spatially homogenous dynamic medium,JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS,2013,第2作者
（15）Influence of tilt moire fringe on alignment accuracy in proximity lithography,OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING,2013,第2作者
（16）Focusing property of high numerical aperture photon sieves based on vector diffraction,OPTICS COMMUNICATIONS,2013,第2作者

发表著作（1）光学投影曝光微纳加工技术,Optical projection lithography micromachining technology,北京工业大学出版社,2015-04,第2作者


科研活动
科研项目（ 1 ） ArF曝光系统研制, 参与,国家级,2009-04--2015-12
（ 2 ） 极紫外光刻原理实验装置机械与真空系统研制, 主持,国家级,2009-01--2015-12
（ 3 ） 超分辨光刻装备研制, 主持,国家级,2012-01--2015-12
（ 4 ） 大数值孔径光子筛成像的像差特性研究, 主持,国家级,2013-01--2017-12

参与会议

合作情况
项目协作单位

指导学生已指导学生
余勇硕士研究生080201-机械制造及其自动化
蒋文波博士研究生080402-测试计量技术及仪器
严伟博士研究生081002-信号与信息处理
杨勇博士研究生080402-测试计量技术及仪器
周绍林博士研究生080402-测试计量技术及仪器
陈旺富博士研究生080300-光学工程
徐锋博士研究生080402-测试计量技术及仪器
李金龙博士研究生080402-测试计量技术及仪器
朱江平博士研究生080300-光学工程
李兰兰博士研究生080402-测试计量技术及仪器
何渝博士研究生080300-光学工程
邸成良博士研究生080402-测试计量技术及仪器
周毅博士研究生080300-光学工程
张满博士研究生080300-光学工程
王楠博士研究生080402-测试计量技术及仪器
王从政博士研究生080402-测试计量技术及仪器
程依光博士研究生080300-光学工程
刘俊伯博士研究生080300-光学工程
王佳舟博士研究生080300-光学工程
邓钦元博士研究生080402-测试计量技术及仪器
曹阿秀博士研究生080402-测试计量技术及仪器
田鹏博士研究生080402-测试计量技术及仪器
现指导学生
王建博士研究生080300-光学工程
杨可君博士研究生080402-测试计量技术及仪器
魏宏斌硕士研究生085203-仪器仪表工程
程文播博士研究生080300-光学工程
谢仲业博士研究生080402-测试计量技术及仪器
刘锡博士研究生080402-测试计量技术及仪器
刘江辉博士研究生080402-测试计量技术及仪器
龚健文博士研究生080402-测试计量技术及仪器
杨超硕士研究生080402-测试计量技术及仪器
孙海峰博士研究生080402-测试计量技术及仪器
胡常安博士研究生080402-测试计量技术及仪器
金川博士研究生080402-测试计量技术及仪器