1、招生信息2、教育背景3、工作经历4、教授课程5、专利与奖励6、出版信息7、科研活动8、合作情况9、指导学生
基本信息
程新红 女 硕导 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
电子邮件： xh_cheng@mail.sim.ac.cn
通信地址： 上海市长宁路865号
邮政编码：
研究领域
招生信息

招生专业080903


招生方向SOI高压器件，高介电常数栅介质

教育背景

学历

学位
工作经历

工作简历2011-01~现在, 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 研究员


社会兼职
教授课程
专利与奖励

奖励信息

专利成果
出版信息

发表论文（1） 水基ALD方法在石墨烯上生长Al2O3, mprovement of Al2O3 Films on Graphene Grown by Atomic Layer Deposition with Pre-H2O Treatment, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2014, 第 5 作者
（2） ON-Resistance Degradation Induced by Hot-Carrier Injection in SOI SJ-LDMOS, IEEE Transaction on Electron Devices, 2013, 第 5 作者
（3） Inp 衬底上Al2O3/NbAlO/Al2O3 栅介质生长, sandwich gate dielectric film on InP, Applied Physics Letters, 2010, 第 1 作者
（4） Ti盖帽层保护退火的HfAl2O5栅介质特性研究, Interfacial structures and electrical properties ofgate dielectric film annealed with a Ti capping layer, Applied Physics Letters, 2007, 第 1 作者
（5） Si0.8Ge0.2 衬底上EBV方法制备的HfxSiyO薄膜特性研究, Characteristics of HfxSiyO films grown on layer by electron beam evaporation, Applied Physics Letters, 2006, 第 1 作者


发表著作
科研活动

科研项目（ 1 ）(3)Ⅲ-Ⅴ族半导体衬底上铪基高k栅介质界面特性研究, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12
（ 2 ）预先研究项目（**D）, 主持, 国家级, 2011-01--2015-12
（ 3 ）(4)8 位MCU、CAN、LIN 设计开发（2012ZX**）, 参与, 国家级, 2012-01--2014-12


参与会议
合作情况

项目协作单位
指导学生