1、招生信息2、教育背景3、工作经历4、教授课程5、专利与奖励6、出版信息7、科研活动8、合作情况9、指导学生
基本信息
刘毛 女 硕导 中国科学院合肥物质科学研究院
电子邮件： mliu@issp.ac.cn
通信地址： 安徽省合肥市合肥物质科学研究院固体物理研究所
邮政编码： 230031
研究领域
招生信息

招生专业070205


招生方向宏观体系纳米材料制备及红外探测性能研究

教育背景2002-09--2007-07 中国科学院合肥物质科学研究院 博士研究生
1998-09--2002-07 安徽大学物理系 学士


学历

学位
工作经历

工作简历2011-03~现在, 中国科学院合肥物质科学研究院, 副研究员
2007-07~2011-02,中国科学院合肥物质科学研究院, 助理研究员
2002-09~2007-07,中国科学院合肥物质科学研究院, 博士研究生
1998-09~2002-07,安徽大学物理系, 学士


社会兼职
教授课程
专利与奖励

奖励信息

专利成果
出版信息

发表论文（1） Temperature dependence of chemical states and band alignments in ultrathin HfOxNy/Si gate stacks, J. Phys. D: Appl. Phys, 2012, 第 2 作者
（2） Preliminary investigation of high-k materials -TiO2 doped Ta2O5 Films by remote plasma ALD, Physics Procedia, 2012, 第 3 作者
（3） Low-temperature synthesis of Mn3O4 hollow-tetrakaidecahedrons and their application in electrochemical capacitors, CrystEngComm, 2011, 第 3 作者
（4） Interfacial, optical properties and band offsets of HfTiON thin films with, J. Appl. Phys., 2011, 第 1 作者
（5） HfO2–GaAs metal-oxide-semiconductor capacitor using dimethylaluminumhydride-derived aluminum oxynitride interfacial passivation layer, Appl. Phys. Lett., 2010, 第 3 作者
（6） Nitrogen dependence of band alignment and electrical properties of HfTiON gate dielectrics metal-oxide-semiconductor capacitor, Appl. Phys. Lett., 2010, 第 3 作者
（7） Effect of Ti incorporation on the interfacial and optical properties of HfTiO thin films, J. Appl. Phys., 2010, 第 1 作者
（8） Thermal nitridation passivation dependent band offset and electrical properties of AlOxNy /GaAs gate stacks, Appl. Phys. Lett., 2009, 第 3 作者
（9） Thickness-modulated optical dielectric constants and band alignments of HfOxNy gate dielectrics, J. Appl. Phys., 2009, 第 3 作者
（10） Effect of thermal treatment on the band offsets and interfacial properties of HfOxNy gate dielectrics, J Phys D: Appl Phys., 2009, 第 1 作者
（11） Effects of nitrogen atom doping on optical properties and dielectric constant of HfO2 gate oxides, Appl. Phys. Lett., 2008, 第 3 作者
（12） The effect of nitrogen concentration on the band gap and band offsets of HfOxNy gate dielectrics, Appl. Phys. Lett., 2008, 第 3 作者
（13） Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapoure deposition (UV-CVD), Appl. Surf. Sci., 2007, 第 1 作者
（14） Characteristics of HfOxNy thin films by rf reactive sputtering at different deposition temperatures, J. Appl. Phys., 2007, 第 1 作者
（15） Effect of post deposition annealing on the optical properties of HfOxNy films, Appl. Phys. Lett., 2006, 第 1 作者
（16） Microstructure and interfacial properties of HfO2-Al2O3 composite films grown by sputtering, Appl. Surf. Sci., 2006, 第 1 作者
（17） Characterization of HfOxNy gate dielectrics using a hafnium oxide as target, Appl. Surf. Sci., 2006, 第 1 作者
（18） Chemical compositions and optical properties of HfOxNy thin films at different substrate temperatures, Mater. Sci. Semicond. Process., 2006, 第 1 作者


发表著作
科研活动

科研项目（ 1 ）Ti3+增强TiO2薄膜光催化降解有机染料的机理研究, 主持, 部委级, 2010-03--2012-02
（ 2 ）HfTiON/TaON叠层高k栅介质薄膜的制备及其在锗场效应晶体管中的应用探索, 主持, 国家级, 2012-01--2014-12
（ 3 ）纳米材料功能化宏观体系的构筑和性能研究, 参与, 国家级, 2011-12--2016-12


参与会议
合作情况

项目协作单位
指导学生