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不同处理状态下(Tblt;,0.3gt;Dylt;,0.7gt;)lt;,35gt;Felt;,65gt;磁致伸缩薄膜的结构及其磁性能

文献类型	会议
作者	姜训勇[1];袁志好[2];徐惠彬[3]
机构	[1]天津理工学院材料科学与工程系(天津 [2]天津理工学院材料科学与工程系(天津 [3]北京航空航天大学材料科学与工程学院(北京 ↓
会议论文集	第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集
来源信息	年:2004
会议信息	第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议ISSN:
关键词	薄膜;晶化;磁各向异性;直流磁控溅射法
摘要	采用直流磁控溅射法使用合金靶制备了(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>薄膜.在400℃以下处理时薄膜均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了α-Fe相.镀态薄膜呈现出垂直磁各向异性,随着基板预变形的增加,薄膜的垂直磁各向异性逐渐消失,达到一定的预变形后,薄膜没有明显的易磁化方向,这种趋势经200℃处理仍保持.经400℃处理后,所有薄膜呈现出平面磁各向异性.
所属部门	材料科学与工程学院；校机关
全文链接	http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_5504146.aspx
会议地点	天津
会议开始日期	2004-05-27

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材料科学与工程学院徐惠彬

dc:title:不同处理状态下(Tblt;,0.3gt;Dylt;,0.7gt;)lt;,35gt;Felt;,65gt;磁致伸缩薄膜的结构及其磁性能
dc:creator:姜训勇;袁志好;徐惠彬
dc:date: publishDate:2004-05-27
dc:type:会议
dc:format: Media：第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议.2004.
dc:identifier:DOI：
dc: identifier:ISBN: