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ODC在软件过程度量与分析中的应用

外文标题	Application of ODC in Software Process Measurements and Analysis
文献类型	期刊
作者	孙蔚[1];刘美红[2];周光[3]
机构	[1]北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系 北京100083,北京100083,北京100083 [2]北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系 北京100083,北京100083,北京100083 [3]北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系,北京航空航天大学计算机科学与工程系 北京100083,北京100083,北京100083 ↓
来源信息	年:2003卷:39期:23页码范围:98-101
期刊信息	计算机工程与应用ISSN:1002-8331
关键词	ODC;缺陷数据分析;过程度量;软件过程改进
摘要	正交缺陷分类(ODC)是软件过程度量与分析中的一种新技术.文章介绍了ODC的概念、发展过程、总体结构以及各种ODC缺陷属性的含义,阐述了如何使用ODC来度量开发过程和识别过程中的问题.最后,文章对ODC的应用和实施进行了总结与分析.
收录情况	PKUISTICCSCD
所属部门	计算机学院
链接地址	http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_jsjgcyyy200323032.aspx
DOI	10.3321/j.issn:1002-8331.2003.23.032

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dc:title:ODC在软件过程度量与分析中的应用
dc:creator:孙蔚;刘美红;周光
dc:date: publishDate:2003-08-11
dc:type:期刊
dc:format: Media：计算机工程与应用
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：计算机工程与应用.2003,39(23),98-101.
dc:identifier:DOI：10.3321/j.issn:1002-8331.2003.23.032
dc: identifier:ISBN:1002-8331