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掺磷纳米硅薄膜的微结构

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06

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掺磷纳米硅薄膜的微结构
外文标题Structure Characteristics of Phosphorus-Doped Hydrogenated Nano-Crystalline Silicon Films
文献类型期刊
作者于晓梅[1];王金良[2];江兴流[3];王天民[4]
机构
来源信息年:2002卷:28期:5页码范围:547-549
期刊信息北京航空航天大学学报ISSN:1001-5965
关键词硅薄膜;晶粒;显微镜;团簇
摘要采用喇曼(Raman)散射谱、高分辨率电子显微镜(HRTEM)和原子力显微镜(AFM)对掺磷纳米硅薄膜的微结构进行了分析,并对纳米硅薄膜的传导机制进行了探讨.结果表明:掺磷纳米硅薄膜由尺寸为2~4*#nm的晶粒和2~3个原子层厚的非晶界面构成,计算得到薄膜的晶态比为40%~55%.与本征纳米硅薄膜相比,掺磷纳米硅薄膜晶粒尺寸和晶态比没有明显变化,电导率却提高了2个数量级.随着掺磷浓度增加,纳米硅薄膜的晶粒尺寸、晶态比及电导率逐渐增大.AFM观察表明掺磷纳米硅薄膜由尺寸介于15~20*#nm的团簇构成,团簇排列具有带状特征.
收录情况PKUCSCD
所属部门物理科学与核能工程学院
链接地址http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_bjhkhtdxxb200205013.aspx
DOI10.3969/j.issn.1001-5965.2002.05.013
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影响因子:


物理系王金良

dc:title:掺磷纳米硅薄膜的微结构
dc:creator:于晓梅;王金良;江兴流,等
dc:date: publishDate:2002-10-30
dc:type:期刊
dc:format: Media:北京航空航天大学学报
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:北京航空航天大学学报.2002,28(5),547-549.
dc:identifier:DOI:10.3969/j.issn.1001-5965.2002.05.013
dc: identifier:ISBN:1001-5965
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