高效镀铬工艺及机理的研究
| 文献类型 | 学位 |
| 作者 | 关山[1] |
| 机构 | 北京航空航天大学 ↓ |
| 授予学位 | 硕士 |
| 年度 | 2000 |
| 学位授予单位 | 北京航空航天大学 |
| 语言 | 中文 |
| 关键词 | 高效镀铬工艺;镀铬;添加剂;电流效率;镀层质量;作用机理;一元线形回归 |
| 摘要 | 该文在详细研究了各种电镀铬添加剂,基本镀铬溶液成分及工艺条件对镀铬阴析电流 效率,镀层外观,镀层质量的影响的基础上,开发了新型镀铬添加剂及镀铬工艺的配方BHCrl.使阴极电流效率从13~18﹪提高到22~28﹪,并且可以在较宽的温度与电流密度范围里 获得光亮光滑的镀铬层.该文评定了BHCrl工艺镀层硬度,耐磨性,耐蚀性,孔隙率,镀层 微裂纹数目,镀层晶体结构等性能,结果表明:与标准镀铬工艺所得镀层比较可知,该工工艺镀层具有较好的综合性能.研究了热处理对于BHCrl工艺镀层硬度及耐磨性的影响,发现 该工艺镀层的硬度及耐磨性在200~300℃间热处理一小时后都有不同程度的提高.研究了BHCrl高效镀铬工艺镀液的配制方法,重点研究了利用双氧水处理镀铬深液中三价铬离子的原 理与工艺.制定了BHCrl添加剂的补加方法及标准补加曲线,完成了该工艺的时试.结果表 明该工艺比较成熟,可以进行推广应用. |
影响因子：
dc:title:高效镀铬工艺及机理的研究
dc:creator:关山
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:学位
dc:format: Media：北京航空航天大学
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：北京航空航天大学.2000.
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dc: identifier:ISBN:
