文献详情


PCVD法硬质薄膜TiN的微观结构,性能和涂层强化设备技术的研究

文献类型	学位
作者	刘齐成[1]
机构	北京航空航天大学 ↓
授予学位	硕士
年度	2000
学位授予单位	北京航空航天大学
语言	中文
关键词	等离子增强化学气相沉积;弧增强PCVD;薄膜分析;离化;TiN薄膜
摘要	该课题研制开发了新型脉冲直流PCVD设备,对PCVD法TiN系列薄膜的微观结构与性能进行了分析研究;对PCVD法TiN薄膜和CVD法TiN+TiCN复合膜的性能进行了对比研究;对弧增强法超细薄膜进行了探索研究,研究表明:对PCVD设备真空系统密闭性、加热效率和载气控制参量精度的提高,使新型脉冲直流的性能大大提高;在一定范围内薄膜成分中N/Ti比的提高,可以使薄膜晶粒细化;在制备TiN薄膜开始时,等离子场强度在界面处存在细微差别,使TiCl<,4>不能充分离化,造成TiN膜基界面处氯的残留,严重影响薄膜的结合强度及耐蚀性;由于CVD法和脉冲直流PCVD法反应模式和成膜机制的不同,使形成的薄膜在晶粒形状和尺寸上有很大的差别;弧增强PCVD系统脉冲直流辉光等离子场的"二次激发"作用,离化率和入射离子能量的提高,促进了等离子化学反应充分进行.

影响因子：


暂无成果共有人
dc:title:PCVD法硬质薄膜TiN的微观结构,性能和涂层强化设备技术的研究
dc:creator:刘齐成
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:学位
dc:format: Media：北京航空航天大学
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：北京航空航天大学.2000.
dc:identifier:DOI：
dc: identifier:ISBN: