刘忠伟，1973年9月生，工学博士，教授，硕士生导师。现任职于北京印刷学院等离子体物理与材料研究室。中国电工技术学会等离子体及应用专业委员会委员、中国环境科学学会绿色包装委员会委员。1992.7-1996.7，就读于山东轻工业学院化学系，获学士学位。2001.7-2008.7，在大连理工大学应用化学专业，硕博连读，获博士学位。2009年入选北京市委组织部“优秀人才”培养计划, 2014年当选北京市属高等学校高层次人才引进与培养—青年拔尖人才培育计划。

2011年2-3月，在日本中部大学Nakamura教授实验室，2012年11月至2013年5月，对哈佛大学化学与生物化学系， 2018年8月至2019年1月，在俄亥俄州立大学机械工程学院进行学术交流。
2012.1-2014.12，北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室专职副主任；
2016.3至今，印刷与包装工程学院高分子材料与工程系主任。


主要研究领域：
1.低温等离子体先进功能材料沉积（等离子体增强化学气相沉积/原子层沉积）;
2.金属有机前驱体的合成（铜、锰、镍、锡等有机前驱体）;
3.低温等离子体诊断（光谱、质谱、朗缪尔探针）。

代表性科研项目
1. 国家自然科学基金面上项目，**，螺旋波等离子体辅助原子层沉积制备铜镍双金属催化材料的研究，2018/01-2021/12
2. 深圳市三海科技有限公司，真空气相沉积技术在柔性材料中的应用，2017.6.20-2022.6.20
3. 北京市自然科学基金面上项目，**，等离子体辅助原子层沉积铜籽晶层及其沉积机理研究，2016/01-2018/12
4. 北京市教委科研计划面上项目，KM2，液体注入化学气相沉积技术制备氮化锰扩散阻挡层的研究，2015/03-2017/03
5. 北京市属高等学校高层次人才引进与培养—青年拔尖人才培育计划，CIT&TCD，大长径比碳纤维-环氧复合材料管内表面铜薄膜沉积技术的研究，2014/03-2017/03


代表性科研成果
1. Qipeng Fan, Lijun Sang, Derong Jiang, Lizhen Yang, Haibao Zhang, Qiang Chen and Zhongwei Liu*, Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Cobalt Nitride with Cobalt Amidinate, Journal of Vacuum Science & Technology A, 2019, 37: 010904
2. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi,Lijun Sang,Bo Gao, Qiang Chen,Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Fabrication of nickel and nickel carbide thin films by pulsed chemical vapor deposition, MRS Communications, 2018, 8: 88-94
3. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi, Wei Xiong, Haibao Zhang, Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Nickel Carbide from a Nickel Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma, ACS Applied Materials & Interfaces, 2018, 10: 8384-8390
4. Wei Xiong, QunGuo, Zheng Guo, Hao Li, Ran Zhao, Qiang Chen, Zhongwei Liu*,Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Nickel Carbide for Supercapacitors and ElectrocatalyticHydrogen Evolution, Journal of Materials Chemistry A, 2018, 6: 4297-4304
5. Guo Zheng, Sang Lijun, Wang Zhengduo, Chen Qiang, Yang, Lizhen, Zhongewi Liu*, Deposition of copper thin films by plasma enhanced pulsed chemical vapor deposition for metallization of carbon fiber reinforced plastics,Surface and Coatings Technology, 2016, 307:1059-1064, DEC 15, 2016
1. Zhang Haitao, Guo Zheng, Chen Qiang, Wang Xinwei, Wang Zhengduo, Zhongwei Liu*, Deposition of silicon oxide coatings by atmospheric pressure plasma jet for oxygen diffusion barrier applications, Thin Solid Films, 2016, 615:63-68，SEP 30，2016
2. Zheng Guo, Hao Li, Qiang Chen, Lijun Sang, Lizhen Yang, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang,* Low-Temperature Atomic Layer Deposition of High Purity, Smooth, Low Resistivity Copper Films by Using Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma，Chemistry of Materials, 2015, 27: 5988?5996，SEP 8,2015
3. Yu Wang, Zhao,Zhongwei Liu, Jitign Ouyang*,Qiang Chen*, Two density peaks in low magnetic field helicon plasma, Physics of plasma, 2015, 22: 093507
4. Lizhen Yang, Zhongwei Liu, Zhiguo, Mao, Sen, Li, Qiang Chen*, Formation and characteristics of patterns in atmospheric-pressure radio-frequency dielectric barrier discharge plasma, Japanese Journal of Applied Physics, 2017, 56: 01AC02
5. Zhengduo Wang, Zhang Li, Zhongwei Liu, Lijun Sang, Lizheng Yang, Qiang Chen*, The Antibacterial Polyamide 6-ZnO Hierarchical Nanofibers Fabricated by Atomic Layer Deposition and Hydrothermal Growth, Nanoscale Research Letters, 2017, 12(1): 421
专利
1. 刘忠伟, 陈强, 赵高, 原建松, 曹庆波, 采用等离子体射流制备高阻隔薄膜的方法，2015.3.11(授权日)，中国，ZL20**
2. 刘忠伟，陈强，国政，一种等离子体增强原子层沉积铜薄膜的方法，申请号7.4, 2015.10.16（申请日）
3. 一种高效组合式大气压电离源，杨丽珍，刘忠伟，郭群，王卫国，申请号7.3, 2016.09.27（申请日）
4. 一种空间聚焦的圆锥形高场非对称波形离子迁移管，杨丽珍，刘忠伟，陈强，申请号CN4.X, 2016.12.07（申请日）


获奖
1.高阻隔、抗迁移绿色包装薄膜产业化关键技术研究，中国包装联合会科学技术奖 三等奖 （排名第三）
2.陶瓷层高阻隔包装理论和应用，中国包装有限责任公司，包装行业科学技术奖 三等奖（排名第三）2018.11